Occasion PLASMATHERM LAPECVD PDC #9382231 à vendre en France

PLASMATHERM LAPECVD PDC est un réacteur avancé à dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) conçu pour répondre aux besoins exigeants de la fabrication contemporaine de dispositifs semi-conducteurs et optoélectroniques. Le PDC utilise des fonctionnalités avancées telles que le plasma assisté par laser (LAPECVD) et la génération de plasma sans tache pour déposer des matériaux diélectriques, conducteurs, optiques et autres de haute qualité, peu défectueux, sur une variété de substrats à des températures allant jusqu'à 1000 ° C L'équipement avancé LAPECVD crée un plasma très uniforme, stabilisé et homogène avec une distribution d'énergie électronique à basse température via un système laser à trois cavités. Ces caractéristiques permettent à l'unité de déposer des couches de films uniformes et denses avec un contrôle précis de paramètres tels que la vitesse de dépôt, l'homogénéité, l'incorporation d'impuretés, le cycle cyclique du gaz et la température de dépôt. La machine peut également être configurée pour accueillir des tailles de substrat allant jusqu'à 330 mm de diamètre, permettant une production efficace de films de qualité commerciale et de qualité de recherche déposés à moyen et à grande échelle. L'outil de génération de plasma impeccable dispose d'une large gamme de traitement de puissance qui permet des transitions rapides entre les processus de dépôt et de gravure sans avoir à refroidir et redémarrer le processus. Avec un trou d'injection de gaz de grande source, le PDC apporte des améliorations supplémentaires dans l'uniformité de réaction et la stabilité. L'actif de contrôle avancé du PDC comprend une interface logicielle intégrée dédiée conçue pour offrir un contrôle pratique sur l'ensemble du processus de dépôt et de gravure, permettant un ajustement facile des paramètres, y compris la température/puissance impulsionnelle, la fréquence des impulsions, la puissance RF, les gaz spéciaux et les conditions de porte-substrat. Le modèle PDC LAPECVD est un réacteur PECVD avancé et efficace capable de répondre aux exigences les plus strictes dans les applications de fabrication de dispositifs semi-conducteurs et optoélectroniques. Équipé de fonctionnalités avancées et d'options de contrôle précises, le PDC fournit un dépôt fiable, uniforme et cohérent de matériaux diélectriques, conducteurs, optiques et autres pour une variété de substrats et de tailles de dispositifs.