Occasion PLASMATHERM SEV-2DC #9072382 à vendre en France

Le réacteur PLASMATHERM SEV-2DC est un outil de dépôt/gravure de plasma qui permet le dépôt de couches minces sur une variété de substrats. Le réacteur utilise une configuration de plaques parallèles éprouvée par l'industrie, permettant le dépôt uniforme de films de haute qualité sur de larges surfaces. La source de plasma est un générateur de plasma à couplage linéaire inductif (LICP), qui délivre du plasma à haute température et très contrôlable aux substrats. Le plasma est généré par l'application d'un signal haute fréquence à une antenne ou à une inductance. La source de plasma est capable de supporter diverses chimies de gravure et de dépôt. La chambre du réacteur est construite en acier inoxydable et est hermétiquement scellée pour maintenir le vide pendant le processus de dépôt. Le refroidissement interne est assuré par une enveloppe de circulation d'eau autour des parois de la chambre pour assurer une température uniforme du substrat pendant le fonctionnement. La chambre de réaction est équipée de deux réseaux d'adaptation RF alimentés et d'un réseau d'accord RF alimenté afin d'assurer des conditions plasmatiques optimales pour les processus de dépôt et de gravure. Outre la chambre de réaction elle-même, le réacteur comporte un certain nombre d'autres composants clés. Il s'agit d'une pompe à vide, d'une serrure, de jauges à vide, d'un contrôleur d'équipement, d'un panneau de gaz, d'un système de distribution de gaz et de capteurs de température. La pompe à vide est chargée d'évacuer la chambre et les conduites d'accompagnement, et la pression est contrôlée par deux jauges de vide. La serrure est utilisée pour introduire et retirer les substrats de l'environnement sous vide sans avoir à casser le bouclier, et l'entrée à double porte empêche la perte de pression de la chambre. Le contrôleur d'unité est une machine numérique qui assure l'interface utilisateur et le contrôle de tous les paramètres tels que la puissance de l'antenne, les réseaux d'adaptation RF, la pression des gaz de dépôt et l'injection de réactifs. Le panneau de gaz est chargé d'introduire les réactifs appropriés pour les processus de gravure et de dépôt. SEV-2DC Réacteur est un outil polyvalent et puissant pour les procédés de dépôt et de gravure en couches minces, facilitant des films de haute qualité dans des conditions très contrôlables. Avec sa combinaison de caractéristiques éprouvées par l'industrie, de matériel robuste et de contrôle fiable, le réacteur offre des performances exceptionnelles dans une gamme de processus.