Occasion STS Pro CVD #9284379 à vendre en France
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ID: 9284379
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2005
PECVD System, 8"
Process: Oxide (SiO2)
Silane based Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
(2) Carousel load locks, 8"
CVD Chamber parts for single substrate processing
Top electrode: RF Bias
Process vacuum pump
DI Water chiller
Scholl pump
Single chamber:
Driven electrode: Upto 350°C temperature
Chamber heating upto 100°C via distributed cartridge heaters
Lid assembly heating of 300°C max via a cast block
High deposition rate with high gas flow capability
Chiller
Gas panel type: On board
(6) Gas lines
Load lock pump
Chamber pump
Maxi gas box: C4F8, O2, N2O, SiH4, NH3, N2, Ar, He
Mixed frequency configuration: ENI 13.56 MHz, 300W RF power supply
Dual power supplies:
RF Supply and matching unit: 500W (380kHz) RFPP LF-5
RF Supply and matching unit: 1000W (380kHz) RFPP LF-10A
2005 vintage.
STS Pro CVD est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour le traitement à l'échelle du laboratoire de matériaux avancés et de leurs surfaces. Cet équipement est capable de produire des couches minces de divers matériaux avancés, notamment des métaux, des oxydes, des nitrures, des carbures et d'autres composés complexes. Le procédé CVD est basé sur l'apport de gaz précurseurs dans une chambre chauffée, où les vapeurs réagissent avec les surfaces de la chambre pour former des couches minces. Le système CVD Pro dispose d'une gamme de fonctionnalités permettant un traitement précis et sûr des matériaux avancés. L'unité est équipée d'une entrée de gaz inerte, de ports d'échappement multiples et d'une conception innovante de porte-échantillons. Le porte-échantillon intègre un mécanisme unique d'inversion de champ pour le dépôt fiable et uniforme de couches minces sur tous les types de substrats. Le support dispose également d'un débitmètre intégré pour contrôler efficacement les flux de gaz. La machine CVD STS Pro est équipée d'un élément chauffant de haute puissance capable d'atteindre des températures allant jusqu'à 1300 ° C L'outil est capable d'atteindre des températures de surface uniformes dans toute la chambre pour un traitement CVD optimisé. L'actif est également équipé de capteurs de température et de pression, ainsi que de régulateurs de poussée et de vitesse, pour un contrôle précis des paramètres du processus. La conception du réacteur Pro CVD garantit également un refroidissement efficace, permettant des temps de descente/descente rapides et de rafraîchissement, pour une meilleure reproductibilité du procédé. En outre, STS Pro CVD Model est équipé d'un contrôleur basé sur un transistor et d'une interface utilisateur. Cela facilite un contrôle complet des paramètres du processus et un suivi précis du processus. L'interface conviviale est également capable d'afficher des valeurs précises de paramètres de processus avec des mises à jour rapides en temps réel. Pro CVD Equipment est très fiable et facile à entretenir, ce qui en fait un choix idéal pour le traitement à l'échelle du laboratoire de matériaux avancés et de leurs surfaces. Le système est conçu pour un fonctionnement précis et efficace dans des conditions environnementales difficiles. L'unité présente également une efficacité énergétique et une faible consommation d'énergie, contribuant ainsi à des économies de coûts.
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