Occasion TEL / TOKYO ELECTRON NT333 #293659316 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON NT333
ID: 293659316
Atomic Layer Deposition (ALD) system.
TEL/TOKYO ELECTRON NT333 est un réacteur épitaxié ultramoderne conçu à la fois pour des applications de recherche et pour la production de dispositifs avancés. Le réacteur TEL NT-333 combine une conception très efficace avec une faible empreinte, permettant une intégration transparente dans le plancher de production. Il est capable de manipuler toutes les tailles de plaquettes standard (2 « à 8 ») avec chargement manuel ou robot et déchargement. TOKYO ELECTRON NT 333 dispose d'une chambre de chauffage à double substrat, et peut chauffer des substrats jusqu'à des températures maximales de 1 200 ° C Le pyromètre optique et les systèmes de régulation de la température assurent la précision et la répétabilité pendant le cycle de dépôt. En outre, NT333 bénéficie d'un équipement unique de distribution de gaz qui permet un contrôle dynamique à basse pression permettant un contrôle précis des taux de dépôt et de l'uniformité. Le réacteur dispose également d'un module d'alimentation avancé, où la puissance de l'électrode RF peut être programmée pour contrôler la température et l'épaisseur de la couche. NT-333 est équipé d'une version avancée du système de « nettoyage à chambre actif » TEL E-VHS. Cette unité fournit un temps de réaction rapide et efficace à l'évolution des conditions de processus, permettant des niveaux de débit plus élevés et moins de problèmes de reproductibilité en raison de la contamination de la chambre. TOKYO ELECTRON NT-333 dispose également d'une nouvelle machine de filtration microparticulaire, fournissant des processus stables avec des niveaux de particules réduits et des rendements de plaquettes améliorés. Enfin, TEL NT333 offre également un outil complet de surveillance de l'environnement, fournissant des données en temps réel sur une variété de pramètres, y compris la pression du gaz, la température, la puissance radioélectrique, la répartition de la température et la répartition de la pression. L'analyse de ces données peut aider les ingénieurs à identifier facilement les anomalies, et fournir une plate-forme pour la collecte de données spectrales précises, facilitant l'optimisation des processus et l'amélioration des rendements des processus.
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