Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Trias High-K #9399573 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Trias High-K Reactor est un équipement révolutionnaire développé par TEL Ltd. Ce réacteur utilise un procédé à haute température pour réduire la présence de couches d'oxyde diélectrique à haut k dans la production de plaquettes. Ce procédé est essentiel pour la fabrication de semi-conducteurs et autres composants modernes. Le réacteur fonctionne en émettant du plasma généré par les micro-ondes et la polarisation dirigible de la cathode chaude. Cette forme de décomposition plasma froid utilise un composé à base de fluor pour éliminer les films d'oxyde isolant présents sur les surfaces des plaquettes, ce qui à son tour facilite le processus de fabrication. Ce réacteur High-K utilise un système de traitement des matériaux à chambre unique qui élimine les films d'oxyde dans un environnement ultra-propre et peut traiter des tailles de plaquettes jusqu'à 200 mm avec des températures allant jusqu'à 1000 ° C Par rapport aux procédés traditionnels de fabrication de bandes et de procédés propres, le réacteur TEL Trias High-K prend moins de temps pour utiliser moins de produits chimiques tels que les gaz de gravure contenant du fluor et produit moins de déchets environnementaux. Ceci est possible grâce à la génération automatisée de recettes, au bon fonctionnement et à la faible maintenance de ce réacteur. A titre d'exemple, le réacteur à chambre unique consomme en moyenne 35 % de moins de gaz par rapport à un système typique à double chambre. TOKYO ELECTRON Le réacteur Trias High-K est très économe en énergie et a apporté d'importants avantages à la production et à la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Ce réacteur est capable de traiter divers besoins spécialisés dans la réalisation de certains des composants semi-conducteurs les plus complexes, tels que des dispositifs semi-conducteurs à oxyde métallique (MOS) à des températures supérieures à 1000 ° C En outre, ce réacteur permet également des procédés d'intégration chimique en phase vapeur (CVI) et de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) qui permettent un meilleur contrôle des propriétés physiques et chimiques des films. Dans l'ensemble, le réacteur Trias High-K est un équipement essentiel pour la production moderne de semi-conducteurs. Il est rentable, économe en énergie et respectueux de l'environnement tout en fournissant l'environnement à haute température et les procédés chimiques nécessaires à la fabrication de composants semi-conducteurs complexes.