Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Triase+ EX-II Ti/TiN #293802350 à vendre en France

TEL Triase + EX-II Ti/TiN est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) à température contrôlée, conçu et produit par TOKYO ELECTRON. C'est un réacteur de haute performance qui est parfait pour produire des films épais ou minces et uniformes de nitrure de titane, tout en évitant la contamination associée aux systèmes CVD traditionnels. L'EX-II est équipé d'un régulateur de température de haute précision, permettant un contrôle précis des températures de croissance du film de 0 ° C à 1500 ° C La conception sans contrepartie permet également une installation peu profilée et une meilleure uniformité des gaz, tout en assurant une meilleure uniformité thermique par rapport aux autres systèmes. Le réacteur est alimenté par un élément chauffant de 1000 watts qui assure un environnement de chauffage stable et cohérent. Ceci, combiné à l'environnement gazeux uniforme est la façon dont les films Ti/TiN sont toujours épais ou minces, et fournissent des propriétés électriques optimales. Le régulateur de température assure également une meilleure stabilité et précision de la température, ce qui améliore la formation et la rétention des particules et réduit les défauts de dépôt. Le réacteur EX-II Ti/TiN est également très efficace, avec zéro déchet et aucun équipement de refroidissement supplémentaire. Il est également compatible avec une variété de gaz, tels que l'hydrogène, l'argon et les mélanges d'azote. Le réacteur est idéal pour diverses applications, y compris la fabrication de transistors à couches minces, le conditionnement électronique, la gestion de haute puissance et les transistors à effet de champ. Globalement, TEL/TOKYO ELECTRON Triase + EX-II Ti/TiN est un réacteur CVD idéal pour produire des films uniformes de nitrure de titane, avec un excellent contrôle de la température et une efficacité énergétique. Le design incomparable du système est parfait pour une installation peu profilée, et il fournit des températures de croissance de film constantes avec une précision inégalée. La conception efficace du réacteur élimine également le besoin d'équipements de refroidissement supplémentaires, et le rend compatible avec une variété de gaz. Avec l'EX-II Ti/TiN, les utilisateurs peuvent obtenir d'excellentes propriétés de couches minces avec moins de défauts de dépôt.