Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Triase+ EX-II Ti/TiN #9252460 à vendre en France

TEL Triase + EX-II Ti/TiN est un réacteur avancé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD), largement utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs. Il est conçu pour déposer des films ultra-minces avec une excellente couverture et une couverture d'étape, essentielle pour la fabrication d'appareils électroniques ultra-petits. Le réacteur Triase + EX-II Ti/TiN est équipé d'une gamme de capacités et de fonctionnalités avancées à haut débit. Il comprend une source de plasma à haute puissance et haute fréquence de résonance cyclotron électronique (ECR) pour contrôler la température, la densité et la distribution d'énergie des gaz réactifs, permettant un contrôle précis des paramètres de dépôt tels que la composition du matériau, l'épaisseur du film, la vitesse, la morphologie, la granulométrie et la rugosité de surface. En outre, le réacteur est conçu avec une large fenêtre de procédé, permettant le dépôt de plusieurs films. Le réacteur Triase + EX-II Ti/TiN dispose également d'une technologie de zone de chauffage à haut rendement, permettant des températures de traitement allant jusqu'à 960 ° C Ce contrôle thermique amélioré garantit des performances de dépôt précises et précises, tout en maintenant des limites de faible budget thermique. L'équipement dispose également d'un logiciel de contrôle facile à utiliser et d'automatismes de chambre pour rationaliser le processus de dépôt, minimiser les contraintes sur les composants de chambre et améliorer la longévité du système. Le réacteur est bien connu pour son fonctionnement fiable et son excellente qualité de film. Le dépôt de films Ti/TiN est possible même pour des dimensions ultra-petites, ce qui permet aux utilisateurs d'obtenir la fabrication de dispositifs top-cran. Cette unité de réacteur présente également une excellente couverture d'étape, essentielle à la réalisation d'interconnexions et de contacts performants. TOKYO ELECTRON Triase + EX-II Ti/TiN est un réacteur de dépôt fiable et de grande qualité pour produire des films Ti/TiN supérieurs. Ses caractéristiques avancées et ses capacités précises de dépôt de film en font le choix idéal pour les applications semi-conductrices les plus exigeantes.