Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Triase+ #293763037 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Triase + est un équipement de traitement plasma de pointe conçu pour répondre aux exigences des procédés avancés de fabrication de semi-conducteurs. Ce réacteur intègre une technologie de pointe et des caractéristiques innovantes pour offrir des performances, une précision et une fiabilité élevées dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Le réacteur TEL Triase + utilise une source de plasma haute densité pour générer et maintenir un environnement plasmatique contrôlé pour des processus précis de gravure et de dépôt des matériaux. Le système intègre une combinaison de sources d'énergie radiofréquence (RF) et hyperfréquence pour obtenir les densités de plasma et l'uniformité nécessaires pour obtenir des résultats de traitement de haute qualité et cohérents. La chambre du réacteur est construite en matériaux avancés capables de résister à l'environnement plasma rude et aux températures élevées qui se produisent pendant le traitement. La conception de la chambre assure une répartition efficace des gaz de procédé et de l'énergie plasmatique sur la surface du substrat pour un traitement uniforme et une contamination minimale des particules. L'une des caractéristiques clés du réacteur TOKYO ELECTRON Triase + est son unité de contrôle de procédé avancée, qui permet de surveiller et d'ajuster en temps réel les paramètres du procédé pour optimiser les résultats de traitement. La machine intègre des capteurs avancés et des mécanismes de rétroaction pour assurer un contrôle précis des paramètres plasmatiques, des débits de gaz et des conditions de température tout au long du processus. Le réacteur Triase + est équipé d'une gamme de systèmes avancés de distribution de gaz qui permettent un contrôle précis des gaz de procédé et de leurs débits. L'outil peut accueillir une variété de gaz de procédé et de précurseurs nécessaires pour différents procédés de gravure et de dépôt, ce qui permet une flexibilité dans la mise au point et l'optimisation des procédés. Le réacteur dispose également d'un outil de manutention de substrat de pointe qui assure un positionnement et un contrôle précis des substrats lors du traitement. Ce modèle permet le traitement de grands substrats avec une grande précision et répétabilité, assurant des résultats de traitement cohérents sur plusieurs substrats. Le réacteur TEL/TOKYO ELECTRON Triase + est conçu pour répondre aux exigences strictes des procédés avancés de fabrication de semi-conducteurs, y compris la gravure au silicium profond, la gravure diélectrique, la gravure métallique et d'autres procédés critiques. L'équipement est capable d'obtenir une gravure à haut rapport d'aspect avec une grande sélectivité et uniformité, ce qui le rend idéal pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs complexes avec des spécifications de conception serrées. Le réacteur TEL Triase + est conçu en tenant compte de l'évolutivité, ce qui permet d'intégrer plusieurs modules de processus pour augmenter le débit et la flexibilité dans le développement des processus. Le système est également conçu pour être facilement mis à niveau afin de répondre aux besoins futurs des processus et aux progrès technologiques dans l'industrie des semi-conducteurs. Dans l'ensemble, TOKYO ELECTRON Triase + est une unité de traitement plasma de pointe qui offre des performances, une précision et une fiabilité élevées pour des applications avancées de fabrication de semi-conducteurs. Grâce à sa technologie de pointe, à ses caractéristiques innovantes et à sa conception robuste, le réacteur Triase + est bien adapté pour répondre aux exigences évolutives de l'industrie des semi-conducteurs et stimuler l'innovation dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs.