Occasion THOMAS SWAN / AIXTRON CCS #293630289 à vendre en France

THOMAS SWAN/AIXTRON CCS est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur renforcé par plasma (PEVCD) conçu pour fabriquer une gamme de films semi-conducteurs. Le réacteur AIXTRON CCS utilise un système à alésage large pour fournir une grande surface de dépôt, donnant au système une flexibilité pour produire une gamme de films pour de nombreuses applications différentes. Le système à alésage large permet également un contrôle de haut débit et de haute précision de l'épaisseur du film. THOMAS SWAN CCS est équipé d'une source de radiofréquence ultra haute fréquence (UHF) et d'une source d'ionisation plasma pour exciter la réaction de dépôt utilisée pour créer des films. La source UHF travaille à créer un champ électrique alternatif entre le substrat et la source RF, ce qui provoque alors l'ionisation du plasma et le dépôt des matières réactives sur le substrat. En plus de la source UHF, CCS comprend également une source de courant continu (DC) de forte puissance pour effectuer l'allumage plasma soutenu. La source DC travaille à créer un champ électrique à longue durée de vie qui aide à maintenir la formation de plasma. Il assure également une ionisation plasma cohérente, l'énergie ionique et la vitesse de dépôt. De plus, la source de courant continu permet des températures de substrat très basses, ce qui contribue à réduire le risque d'endommagement du substrat lors du dépôt. THOMAS SWAN/AIXTRON CCS dispose également de multiples entrées pour le gaz de dépôt, permettant des concentrations contrôlées et variables des précurseurs. L'entrée de gaz comporte également une buse de tête de douche pour une délivrance plus uniforme des matériaux précurseurs pour un dépôt de film plus uniforme. De plus, AIXTRON CCS comprend un suscepteur de type ascendant pour aider à maintenir le substrat à une température et une pression constantes qui aident à assurer un dépôt uniforme dans tout le film. Le réacteur CCS THOMAS SWAN est conçu pour être convivial et ses contrôles avancés des procédés fournissent aux utilisateurs des résultats fiables et reproductibles. Le réacteur CSC est idéal pour la production de couches minces technologiquement avancées et convient à une variété de semi-conducteurs, y compris les transistors et les cellules solaires.