Occasion TOSHIBA / NUFLARE EGV-28FM #9069033 à vendre en France

TOSHIBA/NUFLARE EGV-28FM est un équipement de lithographie à haute performance conçu pour la production de matériaux avancés dans le développement de plaquettes de base pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Le système consiste en un canon à écriture directe de 14 cm de diamètre capable de produire des motifs avec des caractéristiques très précises jusqu'à 8 nm de taille. Il est également capable d'un positionnement extrêmement précis de la poutre sur la plaquette, nécessaire à la fabrication de structures semi-conductrices de haute précision. L'unité est conçue pour le traitement de plaquettes de 300 mm ou plus et jusqu'à 28 pouces de plaquettes. La machine peut traiter des substrats tels que l'arséniure de gallium, le silicium et le phosphure d'indium. Il a la capacité de modeler une gamme de structures, telles que des vias à haut rapport d'aspect, des contacts, des nanomètres, divers métaux et polymères. L'outil peut également être utilisé pour l'alignement en chevauchant les marques d'enregistrement sur la plaquette avec le motif dessiné. Le canon est monté sur un étage rotatif, ce qui permet un alignement précis et une intensité de faisceau plus uniforme à travers la plaquette. L'étage offre une précision de niveau nanométrique et permet également un positionnement rapide et précis du faisceau d'électrons, réduisant le temps de processus et améliorant le débit. Le faisceau d'électrons est généré à l'aide d'une source d'électrons de type ionisation choc avec une très haute luminosité. La source peut fonctionner à différents niveaux de courant de 1mA à 30mA, ce qui permet d'ajuster l'intensité du faisceau. L'actif dispose également d'un moniteur spot haute résolution pour le réglage et le maintien de la qualité du faisceau. Il peut également être équipé d'une installation de chargement/déchargement de plaquettes en chambre, avec une précision d'alignement supérieure à 50 microns. Le plasma activé par faisceau d'électrons dans la chambre peut être utilisé pour traiter des matériaux sensibles. La chambre est en acier inoxydable approuvé à ultra-haut vide, conçu pour un faible taux de particules sous vide. L'alimentation haute tension du modèle est capable de fournir une tension d'accélération de 0V à 50kV et est conçue pour assurer un fonctionnement sûr et fiable. TOSHIBA EGV-28FM est un équipement de pointe pour la production de nouveaux matériaux, avec une haute résolution et précision. Il peut être utilisé pour fabriquer diverses structures pour les plaquettes de base, avec la capacité de s'adapter à n'importe quelle taille de plaquette, ce qui le rend idéal pour les dispositifs semi-conducteurs de prochaine génération.