Occasion ULTRATECH / VEECO Savannah G2 #9396984 à vendre en France

ULTRATECH/VEECO Savannah G2 est un réacteur de dépôt de couche atomique (ALD) principalement utilisé pour le dépôt d'une large gamme de couches minces. Il peut contrôler avec précision la croissance de couches minces de quelques à des centaines de nanomètres de diamètre. Cet équipement est un réacteur ALD à pression atmosphérique à chambre unique avec une technologie à paroi froide pour la distribution de gaz de procédé. Le système est capable de manipuler des températures aussi basses que -40 ° C et une gamme de mélanges de gaz réactifs qui lui permettent de déposer des matériaux tels que des oxydes, des nitrures et des métaux. VEECO Savannah G2 est équipé de deux injecteurs de gaz à tête de douche adaptés aux gaz très réactifs. Ces injecteurs sont conçus pour fournir un débit de gaz même homogène à de faibles débits. De plus, la tête de douche est adaptée aux opérations par lots car elle est livrée avec un mode d'éclatement où le matériau est déposé sous forme d'impulsion, assurant des résultats uniformes et reproductibles. De plus, l'unité est équipée d'une fonction de rafraîchissement rapide de la température qui fournit des processus à haut débit tels que des croissances de film lorsque les échantillons doivent être chauffés et refroidis entre les cycles. Par ailleurs, la machine est également équipée d'un outil de purge d'azote pour contrôler la pression dans la chambre lors de l'utilisation de gaz très réactifs tels que l'eau et l'hydroxy pour réduire la vitesse de dépôt. De plus, l'actif dispose d'un pyromètre optique intégré qui fournit des données thermiques précises et une rétroaction en temps réel pour contrôler la température de la chambre. Grâce à son ouverture mécanique de chambre à clamshell, les utilisateurs peuvent facilement accéder à la chambre sans avoir à enlever ou modifier des composants. Il est également équipé d'un logiciel de contrôle avancé qui fournit une plate-forme pour personnaliser les processus en fonction des besoins de l'utilisateur. ULTRATECH Savannah G2 est capable d'atteindre des taux de croissance jusqu'à 5nm/min et présente une très bonne répétabilité lors du dépôt multiple du même film. Il a été utilisé avec succès pour la recherche et le développement de nouveaux matériaux, ainsi que pour la production de dispositifs à couches minces tels que des microprocesseurs, des cellules solaires et des diodes électroluminescentes.