Occasion ULVAC CC-200Cat #293807369 à vendre en France

ULVAC CC-200Cat est un réacteur avancé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour offrir un contrôle précis de la croissance des couches minces et des nanomatériaux pour diverses applications, y compris la fabrication de semi-conducteurs, les cellules solaires et les dispositifs électroniques. Ce réacteur fait partie de la célèbre série des CC ULVAC, connus pour leurs performances élevées et leur fiabilité dans le domaine du dépôt de couches minces. Le réacteur de CENTIMÈTRE-CUBE-200Cat opère basé sur la déposition de vapeur chimique catalytique (le Chat-CVD) la méthode, qui implique l'utilisation d'un catalyseur pour faciliter la décomposition de gaz de précurseur et la croissance de matériel basé sur le carbone avec la pureté exceptionnelle et la qualité. Cette technologie permet le dépôt de couches minces de haute qualité avec une épaisseur, une uniformité et une composition contrôlées, ce qui la rend idéale pour la recherche et les applications industrielles nécessitant des propriétés matérielles précises. Une des caractéristiques clés du réacteur ULVAC CC-200Cat est sa conception polyvalente qui permet le dépôt de divers matériaux, y compris les nanotubes de carbone (CNT), le graphène et d'autres couches minces à base de carbone. Cette souplesse dans le dépôt des matériaux rend le réacteur adapté à un large éventail d'applications dans des industries telles que l'électronique, le stockage d'énergie et la biotechnologie. La chambre du réacteur de CC-200Cat est construite à partir de matériaux de haute qualité qui peuvent résister aux températures élevées, aux conditions de vide et aux gaz corrosifs couramment utilisés dans les procédés CVD. La chambre est équipée de systèmes de contrôle du débit de gaz, de régulateurs de température et de régulateurs de pression pour assurer des conditions de processus précises et stables tout au long du processus de dépôt. Le réacteur ULVAC CC-200Cat est équipé d'un équipement de chauffage sophistiqué qui peut atteindre des températures allant jusqu'à 800 degrés Celsius, permettant la croissance de couches minces de haute qualité à des températures élevées. Le système de régulation de la température assure une répartition uniforme du chauffage sur le substrat afin de favoriser une croissance uniforme du film et un contrôle de l'épaisseur. Par ailleurs, CC-200Cat réacteur comporte une unité de refoulement multi-gaz qui permet l'introduction de multiples gaz précurseurs dans la chambre, permettant le dépôt de structures et compositions complexes en couches minces. Le réacteur est également équipé d'une machine à vide qui peut atteindre des niveaux de vide ultra-élevés nécessaires à la croissance du film de haute pureté. L'outil de contrôle du réacteur ULVAC CC-200Cat est convivial et intuitif, avec une interface graphique qui permet une programmation facile des paramètres de dépôt tels que les débits de gaz, les températures et les temps de dépôt. Les fonctions de suivi en temps réel et d'enregistrement des données de l'actif de contrôle fournissent aux utilisateurs des informations précieuses sur le processus de dépôt et permettent un contrôle précis de la croissance du film. En résumé, CC-200Cat réacteur est un modèle CVD très avancé et polyvalent conçu pour le dépôt précis de couches minces et de nanomatériaux. Sa conception innovante, sa construction robuste et son équipement de contrôle convivial en font un choix idéal pour les établissements de recherche et les industries qui cherchent à développer des matériaux performants pour un large éventail d'applications.