Occasion ULVAC CME-200J #293680515 à vendre en France

ULVAC CME-200J est un réacteur de pointe de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) conçu pour le dépôt précis et efficace de couches minces dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs et de microélectroniques. Développé par ULVAC, un fournisseur leader de solutions de technologie sous vide, ce réacteur offre des capacités avancées pour le dépôt de films de haute qualité avec une homogénéité et un contrôle supérieurs sur l'épaisseur, la composition et les propriétés du film. CME-200J réacteur dispose d'une conception de haute capacité qui permet le traitement par lots de substrats multiples, l'augmentation du débit et de la productivité dans les environnements de production. Sa taille de chambre polyvalente est adaptée à différentes tailles et formes de substrat, ce qui la rend adaptée à un large éventail d'applications dans des secteurs tels que la fabrication de circuits intégrés (IC), les technologies d'affichage, les MEMS (Micro-Electro-Mechanical Systems) et les photovoltaïques. Au cœur d'ULVAC CME-200J se trouve son système avancé de génération de plasma, qui active efficacement les gaz de processus pour créer un environnement plasma hautement réactif pour le dépôt de films. Le réacteur est équipé d'un générateur RF (radiofréquence) de grande puissance et d'un système de distribution de gaz précis, permettant un contrôle serré des paramètres du plasma, tels que les débits de gaz, la pression et la densité du plasma. Ce niveau de contrôle permet d'optimiser les taux de croissance des films, l'uniformité des dépôts et les propriétés des matériaux, assurant des résultats cohérents et reproductibles sur plusieurs lots. CME-200J intègre un système de manutention des plaquettes de pointe qui permet le chargement et le déchargement automatisés des substrats, minimisant l'intervention des opérateurs et réduisant les temps de cycle. La chambre du réacteur est conçue pour une excellente stabilité thermique et une répartition uniforme de la température, essentielle pour obtenir un dépôt de film uniforme sur de grandes zones de substrat. En outre, le réacteur dispose de dispositifs de sécurité avancés et de systèmes de surveillance pour assurer un environnement de fonctionnement sûr et protéger les substrats et équipements précieux. L'un des principaux avantages d'ULVAC CME-200J est sa compatibilité avec un large éventail de précurseurs et de procédés de dépôt, offrant une flexibilité dans la sélection des matériaux et l'optimisation des procédés. Le réacteur supporte le dépôt de divers matériaux en couches minces, notamment des diélectriques, des semi-conducteurs, des métaux et des semi-conducteurs composés, permettant la fabrication de structures de dispositifs complexes aux propriétés électriques, optiques et mécaniques adaptées. CME-200J est également équipé de diagnostics in situ avancés et de capacités de surveillance des processus, permettant une rétroaction en temps réel sur les conditions de processus et les propriétés du film. Cela permet aux utilisateurs d'optimiser les paramètres du processus à la volée, de minimiser les défauts et d'assurer la reproductibilité des caractéristiques du film de la course à la course. En conclusion, ULVAC CME-200J est un réacteur PECVD très avancé qui offre des performances exceptionnelles, une polyvalence et une fiabilité pour les applications de dépôt en couches minces dans la fabrication de semi-conducteurs et de microélectroniques. Grâce à sa technologie plasma de pointe, à son contrôle précis des procédés et à ses fonctionnalités de fonctionnement automatisé, CME-200J est bien adapté aux environnements de production à haut volume nécessitant des films minces de haute qualité avec une homogénéité et des performances supérieures.