Occasion ULVAC CPD-1210 #9055162 à vendre en France

ULVAC CPD-1210
Fabricant
ULVAC
Modèle
CPD-1210
ID: 9055162
CVD System.
ULVAC CPD-1210 est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour le dépôt de couches minces sur des substrats semi-conducteurs. CPD-1210 dispose d'un corps de réacteur monté verticalement équipé d'un tube en quartz, d'un pulvérisateur interne et d'éléments chauffants. Le tube en quartz contient une entrée de gaz, une sortie de gaz, et est doublé d'une enveloppe d'eau pour maintenir la bonne température du tube. L'atomiseur interne assure une répartition uniforme des molécules de gaz sur les substrats semi-conducteurs. ULVAC CPD-1210 est un procédé en deux étapes, la première étape étant le pré-revêtement du substrat, et la seconde étape impliquant le dépôt proprement dit. Lors de l'étape de pré-revêtement, un gaz de pré-décomposition est introduit dans le tube à quartz qui est chauffé à une température adaptée au substrat à traiter. Le gaz de pré-décomposition aide à décomposer les molécules réactives, ce qui leur permet de se déposer plus uniformément sur le substrat. Le substrat est alors exposé à un gaz de dépôt, qui est généralement une combinaison d'un gaz formant métal et d'un gaz contenant le matériau à partir duquel le film sera déposé. Le gaz de dépôt a une température plus élevée que l'étape de pré-revêtement et avec l'atomiseur interne, assure un dépôt uniforme du film sur le substrat. CPD-1210 a également des caractéristiques supplémentaires, y compris un générateur RF et une chambre de cuisson indépendante, qui permet d'utiliser les gaz de pré-enduction et de dépôt dans la même chambre de réacteur. L'ULVAC CPD-1210 possède une seule source, chambre basse pression, permettant le dépôt de divers types de matériaux tels que les métaux, les oxydes de métaux, les diélectriques et les semi-conducteurs. La chambre est capable d'une température maximale de 1200 ° C, offrant la flexibilité pour contrôler et augmenter la vitesse de réaction et la qualité du film. Dans l'ensemble, CPD-1210 est un réacteur CVD idéal pour le dépôt de couches minces, offrant une uniformité, un contrôle à haute température et une flexibilité pour le dépôt de différents matériaux. ULVAC CPD-1210 est un outil efficace et polyvalent pour produire des films minces de haute qualité en peu de temps.
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