Occasion ULVAC DWNT #9055163 à vendre en France

ULVAC DWNT
Fabricant
ULVAC
Modèle
DWNT
ID: 9055163
Style Vintage: 2003
CVD / Sputtering System 2003 vintage.
ULVAC DWNT est un réacteur CVD thermique à haute diffusion sous vide largement utilisé dans la production de dispositifs semi-conducteurs. Le réacteur est constitué d'un four à quartz, de deux chambres de dépôt séparées et d'une chambre de diffusion, qui sont toutes réunies dans un même système. Le substrat peut être facilement changé de l'extérieur du four à quartz tandis que la température du four peut être variée et affinée. La chambre de diffusion de DWNT contient trois zones ; la zone inférieure est utilisée pour l'introduction des gaz de source et est reliée à une soupape d'échappement. La zone supérieure est celle où les plaquettes sont chargées, avec des chauffages à haute température installés sous les plaquettes. Enfin, la zone médiane abrite la tête de douche où le gaz de réaction est inséré, avec un ventilateur à haute vitesse qui crée des turbulences pour un mélange efficace des gaz. Le gaz réactionnel est injecté à partir de la tête de douche d'ULVAC DWNT et diffuse à travers la chambre de diffusion avant d'atteindre les plaquettes. La diffusion du gaz réactionnel améliore l'homogénéité des films et assure une bonne adhérence des films sur le substrat. La chambre de réaction peut traiter un large éventail de gaz de procédé, y compris SiH4, PH3 et GeH4. Le réacteur DWNT peut maintenir une pression comprise entre 2X10-4 et 8x10-4 Pa. Il fournit également un haut niveau d'uniformité de température dans toute la chambre, obtenant une précision de ± 1-2 ° C sur une grande région du substrat. La température de la chambre peut être comprise entre 350 ° C et 900 ° C, selon le substrat. Le réacteur ULVAC DWNT est très précis, non seulement en ce qui concerne l'homogénéité des températures, mais aussi en ce qui concerne le contrôle de la vitesse et de l'uniformité des dépôts. Il est capable de produire des vitesses de dépôt allant jusqu'à 7000 nm/h avec une précision ± 2 nm. Cela en fait un excellent choix pour la production de dispositifs semi-conducteurs avancés. Dans l'ensemble, DWNT est un réacteur CVD de diffusion efficace et fiable qui est capable de produire des films de haute qualité avec une grande uniformité dans une variété d'environnements gazeux de procédé. Son haut niveau de précision et de fiabilité en font un excellent choix pour toute installation de production.
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