Occasion ULVAC EBX-10D #293792901 à vendre en France
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ULVAC EBX-10D est un équipement d'évaporation à faisceau d'électrons haute performance conçu pour le dépôt précis de couches minces dans diverses applications. Ce réacteur de pointe est fabriqué par ULVAC Technologies, Inc., un fournisseur leader d'équipements de traitement sous vide et de couches minces. Au cœur de réacteur EBX-10D est sa technologie d'évaporation de faisceau d'électrons, qui permet la déposition de films de haute qualité avec le contrôle d'épaisseur excellent et l'uniformité. Ce procédé implique le bombardement d'un matériau source avec un faisceau d'électrons fortement focalisé, provoquant la vaporisation du matériau et la formation d'un film mince à la surface du substrat. L'utilisation d'un faisceau d'électrons permet un contrôle précis de la vitesse et de l'énergie de dépôt, conduisant à des films d'adhérence et de pureté supérieures. ULVAC EBX-10D est équipé d'un certain nombre de fonctionnalités avancées qui améliorent ses performances et sa polyvalence. Le système est conçu pour accueillir un large éventail de matériaux sources, y compris des métaux, des oxydes et d'autres composés, ce qui le rend adapté à une variété d'applications de dépôt en couches minces. Le réacteur est capable de déposer des films sur des substrats de tailles et de formes variables, assurant une flexibilité pour différentes configurations expérimentales. EBX-10D réacteur dispose d'une chambre à vide élevé avec une unité de pompage sophistiquée qui fournit un environnement de dépôt propre et stable. Cela permet le dépôt de films avec de faibles niveaux d'impuretés et de défauts, ce qui rend la machine idéale pour les applications de recherche et de développement où la qualité des matériaux est primordiale. La chambre est également équipée d'une gamme d'outils de surveillance in situ, tels que des capteurs à cristaux de quartz et la spectroscopie optique d'émission, pour permettre la surveillance et le contrôle des processus en temps réel. Un des principaux avantages du réacteur ULVAC EBX-10D est son excellente uniformité de film et son contrôle d'épaisseur. L'outil utilise des techniques de dépôt avancées, telles que le balayage raster et la rotation du substrat, pour assurer une épaisseur de film constante sur toute la surface du substrat. Ce niveau de contrôle est essentiel pour produire des films aux propriétés optiques, électriques et structurelles précises, ce qui rend EBX-10D réacteur bien adapté aux applications en optique, électronique et photovoltaïque. En plus de ses capacités de haute performance, le réacteur ULVAC EBX-10D est également conçu pour faciliter l'utilisation et la maintenance. L'actif dispose d'une interface utilisateur intuitive avec un logiciel avancé de contrôle des processus, permettant aux opérateurs de configurer et de surveiller facilement les processus de dépôt. Le réacteur est également équipé de systèmes automatisés de pompage et d'aération, ainsi que de portes d'accès faciles pour le nettoyage et l'entretien rapide de la chambre. En conclusion, EBX-10D est un modèle d'évaporation de faisceau d'électrons de pointe qui offre une qualité, un contrôle et une polyvalence supérieurs pour les applications de dépôt en couches minces. Grâce à sa technologie de pointe et à sa conception conviviale, le réacteur ULVAC EBX-10D est bien adapté à un large éventail d'applications industrielles et de recherche qui nécessitent un dépôt précis et uniforme de couches minces.
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