Occasion ULVAC Entron-EX2 W300 #9314077 à vendre en France

ULVAC Entron-EX2 W300
Fabricant
ULVAC
Modèle
Entron-EX2 W300
ID: 9314077
Style Vintage: 2013
Multi-chamber sputtering system 2013 vintage.
ULVAC Entron-EX2 W300 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Le réacteur est équipé d'un brûleur à double zone à haute efficacité, à température constante et à faible teneur en NOx qui permet un contrôle précis des conditions du procédé. Entron-EX2 W300 est équipé d'une gamme de caractéristiques comprenant le mélange de gaz interne et externe, un collecteur intégré, des suscepteurs de graphite longue durée de vie, et un contrôleur polyvalent. Ces caractéristiques procurent aux utilisateurs une excellente stabilité et reproductibilité, permettant à la fois le dépôt de films de haute qualité ainsi que les processus de dépôt en coquille centrale et multicouche. ULVAC Entron-EX2 W300 permet aux utilisateurs de créer facilement une grande variété de recettes de dépôt souhaitées. Entron-EX2 W300 utilise une chambre « par lots » pouvant accueillir jusqu'à quatre substrats à la fois. Les dimensions internes de la chambre mesurent 915mm (largeur) x545mm (profondeur) x 520mm de hauteur (y compris la bride) et disposent d'une plaque de suscepteur inclinable de 915mm x 545mm pour un dépôt de film précis. La plaque de suscepteur est conçue pour répartir uniformément la chaleur sur l'ensemble du substrat, produisant ainsi un dépôt de film uniforme sans provoquer d'effets directionnels. La cavité dispose également d'un dôme de quartz peu profilé et d'une entrée et sortie centrale de gaz, qui réduisent la diffusion autour de la plaquette pendant le traitement. En outre, le réacteur ULVAC Entron-EX2 W300 a la possibilité d'être configuré avec diverses solutions qui peuvent optimiser efficacement les processus de dépôt. Par exemple, Entron-EX2 W300 est équipé du système ULVAC coat-monitor-COG, qui peut mesurer avec précision les couches minces et épaisses et aider les utilisateurs à obtenir un dépôt cohérent et répétable sur leurs substrats. De plus, ULVAC Entron-EX2 W300 peut être équipé d'un volet arrière refroidi, qui aide les utilisateurs à obtenir des températures de fonctionnement plus basses et des rendements de dépôt plus élevés. Dans l'ensemble, Entron-EX2 W300 est un réacteur CVD haute performance qui peut aider les utilisateurs à réaliser une gamme de processus de fabrication de dispositifs semi-conducteurs. En utilisant des fonctionnalités avancées ULVAC, ainsi que des mesures de sécurité conviviales, les utilisateurs peuvent optimiser efficacement l'efficacité des processus et garantir des résultats de haute qualité.
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