Occasion ULVAC Entron-EX2 W300 #9314154 à vendre en France

ULVAC Entron-EX2 W300 est un réacteur CVD thermique à plasma conçu pour la production de semi-conducteurs. Il est capable de déposer des films de haute qualité sur des substrats modernes, y compris le silicium, l'oxyde, le verre et d'autres matériaux cristallins avancés. Entron-EX2 W300 est le dernier modèle d'ULVAC (le Voltage Ultra-bas CVD Acoustique) et présente une source de plasma W-shaped innovatrice et vigoureuse de 300 MHz. Cela permet au dispositif de produire des taux de dépôt ultra-élevés et des processus CVD plasma à haute température. La conception globale d'ULVAC Entron-EX2 W300 est très compacte, ce qui la rend adaptée aux applications en laboratoire ainsi qu'aux opérations de production de semi-conducteurs. Il ne mesure que 480 (W) x 1075 (D) x 905 (H) mm et est capable de déposer des matériaux sur des substrats dont la taille peut atteindre 150 mm. Le dispositif dispose d'une interface intégrée de contrôle de processus qui est utilisé pour contrôler le débit, le mélange de gaz, la pression et la température. Entron-EX2 W300 utilise une décharge RF de grande puissance ainsi qu'un système de commande d'arc avancé pour fournir une production de plasma uniforme et à haut débit. Ceci assure le dépôt de films de matériau d'épaisseur uniforme sur différents substrats, donnant d'excellents résultats dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et de plaquettes semi-conductrices. ULVAC Entron-EX2 W300 dispose également d'un microcontrôleur intégré pour surveiller et contrôler des paramètres tels que la température, la pression et le débit. Entron-EX2 W300 possède une variété d'autres caractéristiques qui le rendent idéal pour une utilisation dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et de plaquettes semi-conductrices. Il dispose également d'une conception d'isolation céramique qui minimise la perte de chaleur pendant le fonctionnement, contribuant à réduire les coûts énergétiques. De plus, ULVAC a mis en place un nouveau système de refroidissement, utilisant une gamme de refroidisseurs thermoélectriques, pour s'assurer que l'appareil reste frais et efficace pendant de longues périodes de production. Dans l'ensemble, ULVAC Entron-EX2 W300 est un réacteur CVD thermique incroyablement avancé et fiable qui est capable de déposer des films de haute qualité sur une gamme de substrats différents. Sa source de plasma W-shaped innovatrice et vigoureuse de 300 MHz permet de très hauts taux de déposition et des processus de CVD de plasma hauts et de température et ULVAC a avancé le système de refroidissement garantit que la température d'appareil est systématiquement maintenue pour la plus grande efficacité énergétique. Sa conception compacte et ses multiples fonctionnalités spécialisées en font un choix idéal pour une variété de dispositifs semi-conducteurs et d'applications de fabrication de plaquettes semi-conductrices.