Occasion UNAXIS / OERLIKON / ESEC KAI-1 1200 Gen 5 #9195317 à vendre en France
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ID: 9195317
Style Vintage: 2008
PECVD System
Reactor (Industrial glass size):
Version of commercial KAI 1200 machines inside
OERLIKON PV module turn-key production lines
Amorphous and microcrystalline thin silicon film deposition
1.1 m x 1.3 m glass substrates of 2-4 mm thickness
(2) Reactors: aSi, µcSi layer deposition
Load lock
Glass loading table (Extractable to deliver glass into load lock)
Process unit with (2) PECVD reactors
Equipped with ADVANCED ENERGY Cesar 4 kW 40.68 MHz RF Generator
(15) Mass flow controllers
IDEM MFCs
Max temp: 200°C
EBARA Dry pumps
Front loader system
Films deposited:
aSi/µcSi tandem thin film silicon solar cells
With (Containing intrinsic aSi and µcSi films and their carbon-containing /p- and n-doped declinations)
Self cleaning process with NF3 (No residues in both reactors)
Gas supply and pump connected
Spare parts included
2008 vintage.
Le réacteur UNAXIS/OERLIKON/ESEC KAI-1 1200 Gen 5 est un outil de gravure technologique de pointe à haute performance qui offre des performances améliorées dans une variété d'applications de production. L'outil est de conception monobloc et dispose d'une puissance variable puissante, une uniformité avancée et un contrôle de livraison de flux. Son générateur RF haute résolution est capable de travailler avec une large gamme de fréquences, permettant à l'utilisateur de programmer les conditions de traitement pour une variété d'applications de gravure. Il dispose également d'une bobine intégrée et d'une fonction de réglage de charge pour fournir un contrôle supplémentaire. Le réacteur est conçu et conçu pour la production de diverses applications de dispositifs électroniques, y compris les gravures de grille de transistor, les gravures d'ailettes et les gravures CPW. Il dispose également d'une charge et d'un réglage de bobine sophistiqués pour optimiser les performances du processus. De plus, l'outil permet à l'utilisateur d'entrer des recettes directement à partir d'un CD, d'un stick mémoire ou via l'écran tactile de l'appareil. Le réacteur ESEC KAI-1 1200 Gen 5 est équipé de capacités avancées de gestion du vide. Il a une géométrie en spirale cylindrique fermée pour fournir une atmosphère stable pour les processus de gravure. Cela permet à l'utilisateur de continuer à graver avec des résultats cohérents à différents niveaux de processus, même lorsque la pression est appliquée. Le système intégré d'injection de liquide de l'outil et le générateur RF offrent un meilleur contrôle sur les performances du processus de gravure. L'utilisateur est capable d'ajuster la chimie de gravure, ainsi que les niveaux de flux, pour obtenir des rendements plus élevés avec une plus grande uniformité. Cela permet des processus de production de gravure plus rapides et plus efficaces. De plus, l'outil est conçu avec un système unique refroidi à l'eau pour offrir à l'utilisateur une efficacité accrue. Enfin, le réacteur UNAXIS KAI-1 1200 Gen 5 est conçu en tenant compte de la sécurité et de l'efficacité énergétique. Il est équipé d'un système d'arrêt automatique, ainsi que d'un corps antistatique. De plus, la fonction de rapport d'état de l'outil permet à l'utilisateur de surveiller et d'évaluer la performance globale et la puissance de l'appareil.
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