Occasion VEECO CVC #9307852 à vendre en France

La technologie du réacteur VEECO CVC (Chemical Vapor Deposition) est une méthode de dépôt de haute précision permettant le dépôt de couches nanométriques à micro-échelle de matériaux sur de grands substrats. Cet équipement peut créer des couches nanométriques de divers éléments, dont des métaux, des oxydes et des polymères, au besoin. Il s'agit d'un système universel permettant à un seul module d'agir comme une unité de dépôt, de stoechiométrie ou de gravure pour fab lignes fonctionnant avec des semi-conducteurs avancés - du numérique aux dispositifs MEM et III-V. La machine à réacteur CVC est composée d'une chambre fermée, d'un substrat chauffé et d'une paire de vannes commandées par l'opérateur reliées à des conduites de gaz. En début de cycle, la chambre est étanche et une pression pré-sélectionnée est maintenue. Un gaz de purge est utilisé pour maintenir la propreté et prévenir la contamination des gaz. Lorsqu'il est déclenché, un gaz porteur, tel que l'hélium, l'argon ou l'azote, est passé dans la chambre. Les gaz réactifs appropriés sont ajoutés au gaz porteur en quantités précises et à des températures prédéterminées, assurant le dépôt d'un film uniforme sur le substrat. L'outil du réacteur est automatiquement surveillé et contrôlé tout au long du processus. Le processus de dépôt en CVC VEECO se déroule de deux à cinq heures, selon l'épaisseur et le type de film requis. Lors du dépôt, des matériaux tels que le dioxyde de silicium, le nitrure de silicium et d'autres alliages sont ajoutés au substrat et chaque couche est contrôlée avec soin et précision. Plus la qualité de la couche déposée est élevée, moins les défauts sont importants, ce qui permet de créer des dispositifs submicroniques. La technologie des réacteurs CVC présente un certain nombre d'avantages, notamment en termes de précision et d'uniformité des dépôts. Il est également capable de réaliser des couches de haute qualité avec un contrôle précis. Sa taille compacte lui permet d'être intégré dans une gamme d'empreintes d'outillage de production. En outre, son contrôle précis des gaz permet une variété de procédés, dont le nitruration, l'oxydation, la gravure et le dépôt avec des contaminations minimales, ce qui le rend idéal pour une gamme d'applications. Le procédé VEECO CVC améliore la qualité des dépôts en raison de sa composition uniforme et de moins de problèmes avec la proximité des tolérances le rendant adapté à une gamme de nano-applications. Enfin, le caractère rentable de sa production en fait son idéal pour les lignes de production fab. L'utilisation de réacteurs CVC peut améliorer le processus de dépôt et conduire à des couches plus uniformes avec de meilleures propriétés électriques et peut réduire considérablement le temps nécessaire au dépôt.