Occasion VEECO / DEKTAK K 465 I #9410042 à vendre en France
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ID: 9410042
Style Vintage: 2010
MOCVD System
(2) EBARA ESA25-D Dry pumps
(2) LYTRON LCS7289G1 Chillers
Hydride lines: NH3, SiH4
MKS MFC Type
Alkyl lines:
Lines / SCCM
TMIn 1 / 1000 sccm
TMIn 2 / 200 sccm
TMGa 1 / 1000 sccm
TMGa 2 / 200 sccm+1000 sccm
TEGa / 1000 sccm
TMAl / 500 sccm+1000 sccm
Cp2Mg / 1000 sccm+2600 sccm
DEZn / 500 sccm+1000 sccm
RAUDA Baths:
RE235
(5) RE215
Power supply: 380 VAC, 3-Phase
2010 vintage.
VEECO/DEKTAK K 465 I est un équipement de réacteur spécialement conçu pour le traitement complet des substrats. Il offre un excellent contrôle des paramètres de dépôt et permet une couverture par étapes efficace et un dépôt de film uniforme sur de grandes surfaces. Il offre une homogénéité de substrat supérieure et des performances de manipulation supérieures tout en travaillant dans la zone de travail de 48 mm X 48 mm. Le réacteur est idéal pour la croissance de films simples, multicouches et alliés à l'échelle des nanoparticules. Le système est conçu pour répondre aux besoins d'un large éventail d'industries, y compris les semi-conducteurs, la recherche et les applications générales en laboratoire. Il peut être utilisé pour des procédés tels que le dépôt physique en phase vapeur (PVD), le dépôt d'oxyde à basse température (LTO) et le dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Il a également la capacité de simuler une variété de profils d'oxyde et de nitrure. Le réacteur comprend une plaque de base et un porte-échantillons, un viseur à quartz, un port de distribution spatiale, un obturateur, une unité de vide, une soupape d'échappement, un moniteur de croissance, une alimentation du porte-échantillons et un ventilateur de refroidissement. Tous ces éléments travaillent ensemble pour obtenir les résultats souhaités. En outre, la machine est conçue avec un obturateur mécanique à haut rendement, ce qui peut réduire les effets de l'air atmosphérique sur l'outil, ce qui augmente la précision et l'uniformité des résultats. L'actif est basé sur une approche à deux niveaux avec une « chambre légère » et une « chambre forte ». La « chambre de lumière » est la chambre la plus peu profonde et a une pression de chambre élevée, permettant un traitement par lots uniforme et contrôlé avec des taux de croissance faibles. La « chambre forte » assure un contrôle accru du processus de dépôt et permet l'uniformité des couches. En utilisant plusieurs taux de croissance et différentes configurations de chambres, le modèle est en mesure d'obtenir des résultats supérieurs avec une couverture d'étape, l'uniformité et la qualité du film. Le réacteur VEECO K 465 I est également conçu avec une alimentation porte-échantillon, permettant un contrôle précis de la température et du temps de croissance. L'équipement comprend une interface de contrôle multi-zones, permettant une manipulation précise des paramètres de dépôt. En outre, le système est conçu avec une unité de diagnostic embarquée, qui permet un dépannage facile de la machine et de ses composants. Dans l'ensemble, DEKTAK K465I est un outil de réacteur sophistiqué et avancé conçu pour répondre aux besoins d'un large éventail d'industries et d'applications. Il offre un excellent contrôle sur le traitement du substrat et assure une uniformité et des performances supérieures. L'actif peut fournir des résultats de haute qualité avec une couverture par étapes et un dépôt de film uniforme et est conçu pour répondre aux exigences industrielles les plus exigeantes.
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