Occasion VEECO / DEKTAK K465 #9229665 à vendre en France

Le réacteur VEECO/KDEKTAK VEECO/DEKTAK K465 est conçu pour déposer des couches de matériaux pour des applications de dépôt en couches minces dans l'industrie des semi-conducteurs. Il fournit un contrôle précis de haute résolution des couches aussi minces que 0.1nm pour créer des structures tridimensionnelles critiques. Le réacteur VEECO K465 dispose d'un soufflet de transport double polyvalent capable de loger différents types de mécanismes de transfert de substrat tels que les configurations robot, manuelle et mono-wafer-indexer. Le soufflet de transport permet également une intégration précise et cohérente de plusieurs composants de réacteurs. La conception avancée du soufflet garantit un environnement propre et stable dans la chambre de réaction, idéal pour produire des couches de haute qualité. Le système à vide du réacteur DEKTAK K465 contribue également à son efficacité. Construit avec une turbomachine avec diffuseur et protection à l'azote liquide, il produit des niveaux de vide élevés et réduit le temps d'arrêt de la pompe. Ceci permet au réacteur de commencer à fonctionner rapidement et le dépôt séquentiel complet s'effectue sans interruption. K465 offre également des capacités de chauffage de substrat avancées. Il comporte deux zones de substrat différentes, à savoir des zones à basse et haute température, pour contrôler avec précision la température du substrat. De plus, les zones présentent un suscepteur isolé thermiquement pour un chauffage uniforme du substrat. Le réacteur a une logique de commande complexe qui assure un contrôle précis et stable lors de la rampe des températures. Dans l'ensemble, VEECO/DEKTAK K465 est un système de dépôt en couches minces de précision idéal pour la fabrication de structures tridimensionnelles fines. Son double soufflet de transport fiable assure un contrôle précis des dépôts et son système de vide garantit des environnements toujours propres. De plus, ses capacités de chauffage du substrat assurent des températures uniformes autour du substrat. Dans l'ensemble, ces caractéristiques en font un excellent outil pour produire des formes avancées de technologie des semi-conducteurs.