Occasion VEECO / EMCORE D300 #9250874 à vendre en France

VEECO/EMCORE D300 est un réacteur à plasma inductif à couplage RF (ICP). C'est un outil utilisé pour créer des films minces en silicium polycristallin de haute qualité et de haute pureté. Il est conçu pour un fonctionnement vertical ou horizontal sur plaquettes de 8 « et 12 » et son faible encombrement le rend adapté à la production industrielle. VEECO D300 utilise le PIC pour produire un plasma à source ponctuelle fortement ionisé dans la chambre du réacteur. L'ICP crée le plasma en générant un champ haute fréquence qui induit du courant dans le plasma et crée une source ponctuelle fortement ionisée. Le plasma à source ponctuelle fortement ionisé est essentiel, car il favorise la température élevée, la densité des électrons et l'uniformité dans la chambre du réacteur. EMCORE D300 est équipé de trois suscepteurs différents. Ceux-ci sont utilisés pour monter la plaquette, réguler la température et protéger le silicium de la gravure lors de l'exposition au plasma. L'équipement de contrôle en boucle fermée de D300 fournit un contrôle précis du débit de gaz, permettant à l'utilisateur d'ajuster précisément les débits et de créer des recettes personnalisées pour différents films de silicium polycristallin. VEECO/EMCORE D300 est également équipé d'un système de neutralisation des gaz afin de minimiser les effets des sous-produits créés lors du processus en silicium polycristallin. Le réacteur est conçu pour promouvoir une température uniforme, une densité d'électrons, des chaînes de processus et des recettes. VEECO D300 est construit avec une unité avancée de distribution de puissance RF à deux zones qui permet un meilleur contrôle sur le champ RF. Ces deux zones peuvent être ajustées indépendamment pour offrir un environnement idéal et équilibré pour un traitement optimal. EMCORE D300 dispose également d'une chambre de dépôt de quartz de haute qualité qui entoure et protège la plaquette pendant le processus. La chambre de dépôt est conçue pour assurer un dépôt uniforme et pour minimiser les défauts éventuels sur la plaquette. Dans l'ensemble, D300 fournit un réacteur ICP robuste et efficace qui promeut des films de silicium polycristallin de haute qualité et de haute pureté. Sa machine de commande en boucle fermée et son outil de distribution d'énergie RF à deux zones offrent des performances fiables et durables pour les applications industrielles. Sa chambre de dépôt de quartz assure un dépôt uniforme et permet de minimiser les défauts éventuels sur la plaquette.