Occasion VEECO / EMCORE E300 GaN #9245409 à vendre en France

VEECO/EMCORE E300 GaN est un réacteur compact de haute performance conçu pour des applications telles que le dépôt et la gravure du nitrure de gallium (GaN) et d'autres matériaux nécessitant des taux de dépôt élevés et une uniformité élevée. Le E300 est idéal pour produire des couches minces de haute qualité et des structures nanométriques. Le E300 utilise des sources de plasma à couplage inductif basse pression (PIC), fonctionnant à une puissance maximale de 300 W. Ces sources sont conçues pour obtenir des températures de procédé et des énergies ioniques plus uniformes et cohérentes, ce qui permet d'obtenir un taux de dépôt plus élevé et une meilleure uniformité. Les sources du PCI à basse pression offrent un avantage majeur par rapport aux systèmes de dépôts sous-atmosphériques qui nécessitent de grands volumes de gaz et de longs cycles. Le E300 est capable de contrôler avec précision la température du substrat, ce qui permet un contrôle précis et prévisible de la température pour un large éventail d'applications. Le fond de la chambre est équipé d'un étage chauffant, permettant un contrôle de la température dans la gamme de température ambiante à 500 ° C Cela permet la croissance à basse température de matériaux sensibles, tels que le GaN et d'autres nitrures de III. L'équipement est également équipé d'une source d'énergie électrostatique, qui peut être utilisée pour soumettre le substrat à toute une série de conditions de procédé, faisant varier l'énergie des ions incidents sur le substrat et les propriétés de surface de la couche de film obtenue. Cela permet des processus de gravure et de dépôt uniques tels que les dépôts énergiquement sélectifs (EDD), et offre une plus grande souplesse lors du traitement des nanopatterns. Le E300 dispose d'un système de contrôle de pointe, avec une surveillance des données en temps réel, fournissant un contrôle précis et fiable des processus, même dans les applications à haute température. Le logiciel intégré permet un fonctionnement entièrement automatisé et peut être configuré pour répondre aux besoins spécifiques de l'utilisateur. Dans l'ensemble, VEECO E300 GaN est une unité compacte et haute performance spécialement conçue pour le traitement de GaN. Sa capacité à contrôler avec précision la température du substrat, ainsi que sa gamme intégrée de systèmes de contrôle sophistiqués, en font une machine idéale pour des processus de dépôt et de gravure complexes, tels que la croissance de couches minces GaN de haute qualité et de structures nanométriques.