Occasion VEECO / EMCORE E300 #9283630 à vendre en France

VEECO/EMCORE E300 est un réacteur de traitement à plasma conçu pour la gravure du silicium et d'autres matériaux du groupe IV. Le réacteur utilise un générateur de 13,56 MHz pour créer une résonance cyclotron électronique (ECR) en plus d'un plasma à couplage inductif (ICP) à basse pression (1 mTorr à 100 mTorr) pour les processus de gravure et de dépôt. Le réacteur est adapté à la gravure, au dépôt et à la gravure/dépôt avec recuit thermique rapide (RTA) et offre également des procédés EC basse pression et d'oxydation thermique rapide (RTO). VEECO E300 dispose d'une boîte à gaz pouvant contenir jusqu'à neuf gaz, comprenant deux injecteurs ICP et une télécommande de gaz. La boîte à gaz permet un contrôle précis des densités d'ions et de radicaux plasmatiques, nécessaires à une gravure réussie du silicium et d'autres matériaux du groupe IV, avec différents matériaux nécessitant des densités plasmatiques différentes. Le générateur RF avancé d'EMCORE E300 peut être ajusté finement pour obtenir des résultats optimaux sur différents matériaux. Alors que l'alimentation 2kW fournit une pression de la chambre de procédé de 1 mtorr à 100 mtorr, une nouvelle fonction de contrôle de la polarisation RF de l'azote permet à l'utilisateur d'ajuster la densité du plasma dans la chambre de procédé et améliore également l'uniformité du procédé. Le générateur est également optimisé pour les procédés de dépôt de forte puissance. En plus du générateur RF, E300 offre un contrôle de pression sous la forme d'une pompe turbo moléculaire (TMP) qui peut être utilisé pour maintenir les pressions de traitement désirées. Une conception à double pompe permet un fonctionnement plus stable avec des temps de pompage plus rapides et un meilleur contrôle de la pression. VEECO/EMCORE E300 dispose également d'une conception unique de chambre fractionnée qui sépare les principales chambres de réaction et de dépôt du plasma de la chambre de refroidissement. Cela permet un recuit thermique rapide (RTA) et d'autres processus à haute température sans avoir besoin de plenums de refroidissement double. Le réacteur comprend également un système intégré de surveillance UV pour s'assurer que le processus de gravure est dans des conditions optimales. Le système comprend une chambre de spectroscopie optique avancée pour surveiller la profondeur de gravure et l'uniformité. Dans l'ensemble, VEECO E300 fournit un système rentable de recherche conçu pour traiter un large éventail de matériaux pour différentes applications, allant de la gravure, du dépôt et de la gravure/dépôt avec RTA aux procédés EC et RTO à basse pression. Son générateur RF supérieur et sa conception en chambre fendue offrent une uniformité de gravure exceptionnelle, un meilleur rendement du dispositif et une reproductibilité du procédé.