Occasion VEECO / EMCORE E400 #9047867 à vendre en France
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ID: 9047867
Style Vintage: 2000
MOCVD System
Hydride source line:
(2) AsH3
(2) PH3
Dopant A
Dopant C
Includes:
Ancillary equipment
E400 As/P
GaAs 12x4" (43x2" or 19x3" or 5x6")
Load-lock
(7) MO Source lines
(2) Dopant MO source lines
Sources: DEZn, TESb, TMIn-1, TMIn-2 TMA1, TMGa-1 TMGa-2, IBuGa
(2) Epison III for TMIn
Manuals
2000 vintage.
VEECO/EMCORE E400 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (MOCVD) épitaxié conçu pour traiter des matériaux semi-conducteurs composés tels que l'arséniure de gallium, le phosphure d'indium et l'arséniure de gallium d'aluminium. VEECO E400 est un équipement multi-zones, à tube horizontal, à passage continu qui offre une plus grande précision et fiabilité que les systèmes monocouche dans une empreinte physique beaucoup plus petite. Les zones chaudes internes du réacteur sont précédées de deux zones de préchauffage. Les zones chaudes peuvent être chauffées individuellement, à l'aide d'un système intégré de télécommande, à des températures allant de 100 à 1000 ° C Les zones chaudes sont séparées par une cavité de refroidissement supérieure et inférieure, conçue pour refroidir les zones chaudes pendant les opérations. EMCORE E400 dispose également d'un contrôle multipoint qui permet un contrôle précis de la température sur toute la gamme des conditions d'utilisation et de surveillance. Le réacteur assure également un contrôle efficace et hautement reproductible des procédés, avec une excellente fiabilité et répétabilité des films déposés. E400 utilise une conception unique à double entrée, qui permet un contrôle indépendant des gaz porteurs et réactifs, ainsi qu'un contrôle indépendant de la pression et du débit du gaz. On assure ainsi une répartition uniforme des gaz dans tout le réacteur, ce qui augmente la qualité et l'homogénéité des films. VEECO/EMCORE E400 dispose également d'un générateur de plasma haute fréquence intégré, permettant d'augmenter la vitesse de dépôt, l'uniformité des films et les propriétés améliorées des films. Cette unité permet également de réduire l'encrassement du réacteur, en maintenant une puissance constante sur les bobines et les substrats. Le réacteur comporte également une caractéristique supplémentaire de pré-ionisation plasma, qui réduit la vitesse de dépôt et élimine les impuretés du procédé. L'outil dispose également d'un ensemble injecteur fente-buse en option pour une plus grande uniformité de processus. Cette intégration innovante d'un ensemble injecteur à buse fixe permet de réduire la consommation d'azote, de maintenir la stabilité du processus à l'état stable et de maximiser la répétabilité du processus. Dans l'ensemble, le réacteur VEECO E400 offre aux utilisateurs des caractéristiques de dispositifs améliorées et reproductibles, une uniformité de processus et des capacités de contrôle ajustées. La machine maintient des pressions de gaz constantes tout au long du processus assurant une qualité de dépôt uniforme et répétable. L'ajout du générateur de plasma, d'injecteurs optionnels et de zones chaudes contrôlées de manière indépendante permet aux utilisateurs d'obtenir une plus grande précision et un meilleur contrôle sur le processus MOCVD, garantissant des performances optimales à chaque exécution.
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