Occasion VEECO / EMCORE E450 #9363532 à vendre en France
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ID: 9363532
Taille de la plaquette: 2"
Systems, 2"
Wafer capacity: Up to (48) wafers
Group III MO sources:
(2) TMGa
(2) TMIn
(2) TMAl
Group V hydride sources:
(2) AsH3
PH3
Dopants MO:
CP2Mg
CBr4
Dopants hydride: H2/SiH4
(2) NESLAB Baths
(7) Lorex piezocons
2-Channels for TMI expendable to 4 (For 2 additional TMG)
EBARA A70W Pump
Exhaust system:
(2) Particle filters
Housing
Phosphorus trap
P-Trap automatic regeneration system loadlock: Loadlock chamber
Glove box
Moisture monitor
Wafer carrier transfer robotic system heater
(3) Heater elements:
Inner
Middle
Outer graphite heater temperature control
Temperature monitor 3-point T/C
YOKOGAWA Controller
3-Point SEKIDENKO pyrometer
Gas monitoring:
Gas leak monitor
Toxic gas
H2 Gas monitor system
Epi Windows 2000.
VEECO/EMCORE E450 Epitaxial Reactor est un équipement de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) très avancé conçu pour optimiser les dispositifs semi-conducteurs à haute performance avec une efficacité maximale. Le système dispose d'une chambre de procédé à haute température et haute pression unique qui est capable de produire les films semi-conducteurs de la plus haute qualité dans le plus court laps de temps. Le réacteur VEECO E450 a été conçu avec un four monotracteur à base de fer pour une efficacité et une fiabilité maximales. L'unité avancée de contrôle double vaporisateur est capable de vaporisateurs indépendants et simultanés pour une régulation précise de la température des gaz de procédé. La machine de contrôle améliorée EMCORE E450 permet une flexibilité totale dans le contrôle des flux de gaz de procédé et des recettes préprogrammées pour une croissance épitaxiale optimale. Un flux d'azote purifié en gaz inerte est utilisé pour maintenir un environnement de processus ultra-propre dans le cadre de l'outil avancé de contrôle du vide, assurant d'excellents rendements du dispositif. Le four à boucle d'eau intégré assure une uniformité de température optimale dans toute la chambre et contribue à réduire la contamination et l'intrusion de particules provenant de l'environnement du procédé. Le réacteur de pointe supporte des tailles de substrat allant jusqu'à 6 pouces de diamètre et utilise un moyen de transport de plaquettes de 6 pouces standard pour faciliter le chargement des échantillons. La conception mech « head-in » unique de E450 permet également un chargement et un déchargement rapides et faciles des échantillons et maximise l'uniformité du dépôt du film. La fonction de gravure d'oxyde fin utilise une conception de profil unique et non uniforme pour augmenter la vitesse de gravure sans compromettre l'uniformité du film ou créer des dommages de surface. VEECO/EMCORE E450 est considéré comme un outil essentiel pour la production de dispositifs semi-conducteurs de haute qualité et robustes. Le modèle avancé de contrôle des procédés à haute température, les contrôles de purification des gaz inertes et l'équipement sous vide ultra-silencieux garantissent un environnement ultra propre pour des rendements maximums et la stabilité du dispositif. En outre, le four intégré offre un contrôle maximal de la température et de l'uniformité sur toute la gamme des températures de processus. Toutes ces fonctionnalités se combinent pour faire de VEECO E450 Epitaxial Reactor une plate-forme inégalée pour la fabrication de dispositifs avancés.
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