Occasion VEECO / EMCORE K465i #293587351 à vendre en France

VEECO/EMCORE K465i est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) à haute température utilisé dans le processus de fabrication des semi-conducteurs. Il est capable de déposer des films d'épaisseur saine et uniforme d'oxynitrure de silicium (SiON) et de nitrure de silicium (SiN) avec une excellente couverture de pas jusqu'à 100nm d'épaisseur de film. Les performances de dépôt répétables de VEECO K465i garantissent une conductivité thermique élevée, des propriétés optiques ou mécaniques supérieures pour toute application. Le réacteur peut utiliser des gaz réactifs tels que NH3 et SiH4 pour le dépôt entre autres. Il est conçu pour un débit élevé, assurant une composition de film uniforme sur toute une plaquette avec des vitesses de rampe de température rapides et répétables. Le débit total varie généralement entre 50W-150W et des températures soutenues allant jusqu'à 1000 ° C EMCORE K465i impose des rampes de température précises et précises pour le contrôle des dépôts. Elle est réalisée en contrôlant le séquençage précis des éléments chauffants, la pression de la chambre et le débit des gaz réactifs. Il utilise deux sources distinctes de gaz de procédé. L'une est une source sèche d'azote, utilisée pour refroidir le procédé par une pompe cryogénique pour refroidir le gaz rapidement et maintenir une température de chambre stable. La seconde fournit une alimentation en gaz réactifs, y compris H2, N2, NH3 et un gaz catalyseur, tel que SiH4. En contrôlant le rapport des deux gaz, on peut obtenir une vitesse de dépôt et une uniformité de matière précises. K465i comprend plusieurs caractéristiques standard clés, telles qu'une pale de substrat en céramique, un pyromètre pour mesurer la température instantanée du substrat, des vibrations mécaniques du mandrin et un capteur environnemental pour la reconnaissance du point d'extrémité. Tous les composants sont conçus pour une intégration facile dans les installations de fabrication. VEECO/EMCORE K465i fournit précision et uniformité dans les processus de dépôt. Il offre un débit élevé avec des taux de rampe de température précis et précis et une excellente couverture d'étape. Avec des caractéristiques telles que l'intégration facile, la pale de substrat en céramique, le pyromètre, les vibrations mécaniques du mandrin et les capteurs environnementaux, VEECO K465i offre un dépôt efficace et fiable des films de nitrure de silicium et d'oxynitrure de silicium dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs.