Occasion VEECO / EMCORE K465i #9227304 à vendre en France

Le réacteur VEECO/EMCORE K465i est un équipement de dépôt chimique en phase vapeur (PECVD) à haute température. Ce système est conçu pour assurer un dépôt uniforme et à haute densité de films diélectriques de manière rapide et répétable. Elle est particulièrement utile pour des applications telles que la fabrication de MEMS, la fabrication de cellules solaires à couches minces et la synthèse nanocristalline. VEECO K465i utilise la technologie de générateur double RF qui permet un substrat à haute température directement chauffé avec une faible tension de polarisation du substrat. Il en résulte une faible vaisselle, une grande homogénéité et un dépôt de film de haute qualité. La configuration standard de la chambre peut accueillir jusqu'à quatre plaquettes de 6 pouces et huit plaquettes de 3 pouces. Cette capacité élevée permet l'optimisation de processus à haut débit et l'optimisation de différents types de films pour diverses applications. Le processus PECVD est régulé en contrôlant précisément la chimie du plasma, la pression de la chambre, la température du substrat, la puissance RF et d'autres paramètres. Il contient une capacité de mesure de la température de +/ − 0,3 ° C, ce qui permet un dépôt uniforme et répétable de couches minces sur chaque plaquette. En outre, EMCORE K465i offre une unité intégrée de contrôle des processus pour surveiller avec précision les performances et optimiser le processus. Un circuit d'extrémité à base de thermocouple surveille la vitesse de dépôt in situ et est utilisé pour contrôler précisément l'optique d'extrémité. Il en résulte un meilleur contrôle de la composition du film et de la structure cristalline, ce qui améliore les performances du matériau obtenu. K465i offre également une gamme de serrures standard et personnalisées et tous les autres composants associés pour garantir la plus haute productivité et la stabilité du processus. Il est conçu pour répondre à des critères de performance rigoureux pour les systèmes PECVD pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs et de dispositifs MEMS. C'est une machine fiable et robuste qui peut être utilisée dans des environnements de recherche-développement (R-D) en salle blanche et industrielle. En conclusion, le réacteur VEECO/EMCORE K465i est un outil avancé de PECVD qui permet un dépôt uniforme et de haute qualité de films diélectriques, contenant du silicium et d'autres films nanostructurés. Il permet un contrôle fiable et répétable des paramètres de processus tels que la température, la puissance RF, la pression de chambre et la chimie du plasma. Grâce à son outil intégré de contrôle des processus et à son optique à thermocouple, ce modèle offre une productivité maximale et des performances fiables.