Occasion VEECO / EMCORE K465i #9276024 à vendre en France

VEECO/EMCORE K465i est un réacteur de dépôt de faisceau électronique de faible puissance qui est utilisé pour le dépôt en couches minces de matériaux dans la fabrication de semi-conducteurs et de dispositifs microélectroniques. Utilisant un procédé de pulvérisation magnétron en boucle fermée, le réacteur VEECO K465i est idéal pour la recherche et le développement, ainsi que les procédés de dépôt commerciaux. Le canon à électrons de type Kunimatsu du réacteur permet l'ionisation du gaz d'Argon pour créer un plasma, ainsi qu'un dépôt de pulvérisateurs à basse pression de matériaux de film désirés. Ce canon à électrons est équipé d'un alignement automatique d'ouverture, ce qui permet d'obtenir des paramètres de dépôt optimaux et un bon fonctionnement. Le réacteur est composé d'une chambre, d'un lit chauffant de substrat, d'un canon à électrons, d'un mandrin de substrat et d'un ensemble de quatre aimants quadrupolaires. La chambre à vide du réacteur EMCORE K465i est construite en acier inoxydable ou en aluminium et est couplée avec une pompe à vide et une turbo-pompe pour atteindre une pression de base de 1 µtorr ou moins. À l'intérieur du réacteur, il y a un équipement de faisceau électronique qui comprend un ensemble de canons à électrons, un collecteur et des lentilles magnétiques. Ce système est utilisé pour produire un faisceau mince et en mouvement rapide d'électrons qui balaye les échantillons comme un scanner lent. Le lit de chauffage du substrat est composé d'un chauffage résistif avec capteur de température thermocouple. Ceci permet une température maximale du substrat de 400 degrés Celsius, qui est réglable via un régulateur de température. K465i réacteur comporte également un mandrin plat de substrat qui monte et descend par rapport au canon à électrons, assurant un chauffage uniforme et répétable de la surface de l'échantillon. Les quatre aimants quadrupolaires du réacteur servent à guider les électrons, formant un faisceau focalisé stable. Cela contribue à améliorer l'uniformité et la précision du processus de dépôt. En contrôlant la puissance de la pulvérisation magnétron, on peut faire varier la vitesse de dépôt. Le matériel de la machine e-beam comprend une variété de caractéristiques de sécurité, telles que la protection contre les températures excessives, la surveillance de la puissance totale et la stabilité du courant de tension. Le réacteur à faisceau électronique VEECO/EMCORE K465i offre une variété de caractéristiques et de capacités, ce qui en fait un outil idéal pour les processus de dépôt en couches minces. Avec un balayage optimisé du faisceau électronique et une excellente uniformité, le réacteur VEECO K465i est un atout inestimable pour la fabrication de semi-conducteurs et de microélectroniques à des fins de recherche, de développement et de dépôt commercial.