Occasion VEECO / EMCORE K475 #9315631 à vendre en France

VEECO/EMCORE K475 est un réacteur d'implantation ionique à faisceau électronique spécialement conçu pour la production de composants semi-conducteurs et optoélectroniques. Il permet un dopage de haute précision et de grande surface des substrats avec une large gamme d'énergies et d'intensités du faisceau d'ions allant de 10 keV à 40 keV et de 1 mA à 4 mA, respectivement. VEECO K475 est conçu avec une chambre à vide fractionnée, où la chambre supérieure contient la source d'ions, la structure accélératrice et un pistolet injecteur ; et la chambre inférieure abrite la ligne de faisceau, la station de chargement d'échantillons et la plate-forme cible. Il comporte également un virage pré-ionisé à 90 ° de la ligne de faisceau qui permet à l'opérateur de régler avec précision le courant et la tension du faisceau. EMCORE K475 est conçu pour assurer une uniformité maximale du faisceau sur le substrat cible, assurant ainsi une implantation uniforme. Il est équipé d'un collimateur réglable pour focaliser précisément le faisceau sur le substrat. De plus, le système de moniteur auto-calibrant contrôle le courant du faisceau, son intensité et son uniformité afin d'assurer une implantation optimale, répétable et cohérente. Afin de prévenir les dépôts d'ions indésirables et de réduire la contamination, K475 dispose de capacités de contrôle de la contamination. Il comporte un obturateur ionique et un couvercle de chambre étanche qui permettent à l'opérateur de contrôler la pression interne de la chambre. De plus, une pompe de getter ionique en option est disponible pour le nettoyage post-processus supplémentaire de la chambre. VEECO/EMCORE K475 est un outil flexible pour la production de composants semi-conducteurs et optoélectroniques à haute demande. Il est rapide, efficace et précis, et est capable de produire des implants de haute précision avec une résolution allant jusqu'à 1 μ m. Sa conception robuste, son contrôle sophistiqué et sa précision extrême le rendent adapté aux applications industrielles et scientifiques dans les applications semi-conductrices, optoélectroniques, aérospatiales et militaires.