Occasion VEECO / EMCORE TurboDisc 300 II GaN #9245320 à vendre en France

VEECO/EMCORE TurboDisc 300 II GaN Reactor est un outil de production spécialisé et de pointe conçu pour la croissance de couches épitaxiales à base de nitrure de gallium (GaN) et de nitrure du groupe III. Le réacteur VEECO TurboDisc 300 II GaN utilise une buse super-cyclonique à haut rendement avancé dans sa chambre de procédé pour permettre une croissance fiable et économique au débit le plus élevé possible. Son régulateur de pression réglable assure un contrôle précis de la pression à l'intérieur de la chambre, permettant une croissance du film épais à un rythme beaucoup plus rapide que les générations précédentes de réacteurs GaN, ce qui le rend idéal pour une production à haut volume. En outre, le réacteur EMCORE TurboDisc 300 II GaN est conçu spécifiquement pour un fonctionnement fiable dans des conditions industrielles difficiles, avec une conception de construction métallique facile à entretenir. TurboDisc 300 II GaN Reactor dispose également d'une gamme avancée de haute température, isolée optiquement, pyrolytique susceptor de graphite qui maintient l'uniformité de température sur la surface de la plaquette. La combinaison de ses performances en température et de son système cyclonique de diffusion du soufflet entraîne un contrôle exceptionnel des particules et réduit ainsi les générations de défauts. En outre, le TurboDisc 300 II dispose d'un design d'ouverture avant qui permet des transitions faciles et rapides entre les chambres de processus et les plaques de refroidissement. Cela ouvre des possibilités de procédé avancées, telles que des concentrations accrues de dopants, une diffusion thermique réduite le long de la surface de croissance, une meilleure uniformité plasmatique et un meilleur contrôle de la chimie de surface. VEECO/EMCORE TurboDisc 300 II GaN Reactor bénéficie également d'une technologie hyperspectrale avancée, offrant la plus haute résolution pour visualiser différentes couches de croissance. Cette technologie offre une vue en temps réel des couches de GaN pendant le processus de croissance, permettant un contrôle très précis de l'uniformité et de l'épaisseur des couches. Enfin, grâce à ses puissantes capacités de caractérisation avant et après processus, VEECO TurboDisc 300 II GaN Reactor System offre également des capacités de diagnostic de processus sans précédent, permettant aux opérateurs de mieux comprendre les différents paramètres chimiques et structurels tout au long du processus de croissance. Dans l'ensemble, EMCORE TurboDisc 300 II GaN Reactor est un outil de production puissant et fiable, conçu pour optimiser l'efficacité et l'uniformité de la croissance des couches de GaN, permettant la production industrialisée de matériaux à base de GaN.