Occasion VEECO / EMCORE TurboDisc K465i GaN #293601651 à vendre en France

VEECO/EMCORE TurboDisc K465i GaN Reactor est un équipement de dépôt fiable et puissant spécialement conçu pour le traitement à haute performance du nitrure de gallium (GaN). Il permet à n'importe qui d'obtenir des résultats reproductibles et cohérents avec chaque processus. Ce système utilise la technologie TurboDisc (TD), une combinaison de rotation horizontale et verticale des suscepteurs avec contrôle breveté DualRF™ pour minimiser l'impression totale du pied dans l'outil et le processus. La technologie TD offre uniformité et répétabilité sur tous les points chauds du processus, et refroidissement à haut débit, ce qui optimise le temps de processus. Le K465i utilise une cassette à quatre places pour une flexibilité maximale lors de l'utilisation de suscepteurs à quartz plat. Ce réacteur est équipé de capacités avancées de contrôle et de surveillance des procédés, y compris un contrôle automatique à polarisation variable du substrat (AVSB) et un contrôle thermique rapide (RTC). Le contrôle AVSB permet un dépôt uniforme jusqu'à 350 ° C sur des substrats sensibles à la température, tandis que RTC permet la température de différentes parties dans la chambre tout en maintenant d'autres parties à une température uniforme. Le K465i est également équipé d'une unité de nettoyage automatisé des chambres de traitement (APCC), qui jette des dosages précisément alignés des espèces d'hydrogène et d'azote propres et concentrés sur les parois de la chambre, empêchant toute accumulation de matériaux et toute non-uniformité. Cette machine peut être facilement configurée avec une variété de sources de dépôt, telles que des sources de gaz de haute pureté (HPG), des sources de faisceau atomique (ABS) et des sources de résonance cyclotron électronique (ECR), permettant une flexibilité maximale et des profils de dépôt polyvalents. En outre, le K465i est noyé avec une précision de régulation de température de 20nm, ce qui assure une uniformité de température élevée dans la chambre pendant tout processus. Le K465i est destiné à être utilisé dans la R&D du GaN et dans la production à haut volume. Il est convivial, polyvalent et fiable, offrant des temps de cycle courts et une excellente uniformité de couche dans tous les aspects. Et, avec ses caractéristiques de sécurité, telles que la détection en temps réel des fuites de gaz de procédé, et un outil de verrouillage de sécurité pour les composants mécaniques, le K465i garantit les normes les plus élevées de sécurité et de performance.