Occasion VEECO / EMCORE TurboDisc K465i GaN #9375120 à vendre en France

VEECO/EMCORE TurboDisc K465i GaN est un réacteur épitaxié conçu pour la production de matériaux spéciaux dans diverses applications. Il dispose d'un module de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma à micro-ondes (PECVD) à haute efficacité, qui permet de contrôler avec précision les caractéristiques de croissance des films. Le plasma est surveillé en permanence pour garantir des vitesses et des caractéristiques de dépôt optimales pendant le traitement. Le réacteur est équipé d'une source haute fréquence qui permet l'entrée sélectionnable de deux niveaux de puissance et de plusieurs réglages de fréquence, permettant un environnement réglable et contrôlable. La source haute fréquence assure un environnement de traitement constant et stable, ce qui donne un profil de dépôt uniforme sur l'ensemble de la tranche. VEECO TurboDisc K465i GaN offre une flexibilité de procédé maximale et une fenêtre de traitement améliorée, permettant la production de matériaux composés semi-conducteurs et diélectriques en une seule fois. Il est capable de fournir une homogénéité supérieure des films et des vitesses de dépôt, ainsi qu'un contrôle précis de la structure cristalline et des propriétés des films. L'homogénéité supérieure du réacteur le rend idéal pour la production de matériaux GaN et SiC. Le réacteur peut être équipé d'un équipement de surveillance en temps réel pour assurer une surveillance et une collecte de données précises en temps réel en vue d'un meilleur contrôle du processus pendant le dépôt. En plus de ses performances efficaces pour la production de matériaux spéciaux, EMCORE TurboDisc K465i GaN est également équipé d'une variété de dispositifs de sécurité pour prévenir la surchauffe accidentelle ou les dommages pendant le fonctionnement. Son système de sécurité comprend une unité de protection contre la surcharge, une alarme pour alerter l'opérateur des risques potentiels et une machine unique de contrôle des limites de température conçue pour protéger le réacteur et prévenir les pannes catastrophiques. Le module est équipé d'un outil de surpression, qui empêche l'accumulation de la pression du gaz pendant le fonctionnement et contribue à assurer des conditions de processus optimales. TurboDisc K465i GaN est un réacteur épitaxié idéal pour la production de matériaux composés semi-conducteurs et diélectriques qui exigent les plus hauts niveaux de performance. Ses capacités d'automatisation, son contrôle précis des paramètres du processus et ses fonctions de sécurité complètes en font une option fiable et efficace pour la production de matériaux de haute qualité.