Occasion VEECO / EMCORE TurboDisc K465i GaN #9375121 à vendre en France

Le réacteur VEECO TurboDisc K465i Gallium Nitride (GaN) est un dispositif micro-ondes conçu pour la croissance épitaxiale de matériaux semi-conducteurs composés de nitrures. L'équipement est équipé de deux réacteurs GaN K465i, ce qui en fait un outil de production à deux chambres puissant et fiable. Le réacteur K465i combine une technologie hyperfréquence klystron de pointe avec un contrôle et une surveillance informatiques avancés. Grâce à cette combinaison, il est en mesure de fournir une distribution, une surveillance et un contrôle de puissance hyperfréquence très précis afin d'obtenir une homogénéité optimale sur la plaquette et de favoriser les temps faibles. Le réacteur K465i dispose également d'une plage de température de substrat contrôlable de -10 ° C à + 450 ° C et d'un tube de quartz chauffé qui élimine le besoin de bobines de chauffage latérales. Le K465i est capable d'une croissance homogène sur de grandes tailles de substrat en raison d'une focalisation variable, d'un diagramme de rayonnement de cavité uniforme et d'un profil de champ variable linéaire. La conception de la cavité en forme de V offre une large couverture angulaire, permettant une meilleure uniformité dans toute la couche épitaxiale, tandis que le système de contrôle numérique obtient un meilleur contrôle du filtre. L'unité de chauffage par substrat avancé (ASHS) permet un contrôle précis du budget thermique sans avoir à émettre de gaz inerte, car la plaquette est chauffée dans un environnement sans oxygène. Le ASHS offre également un contrôle numérique complet de la température, une mesure plus précise de la température du substrat, ainsi qu'un réglage automatique pour garantir les meilleurs résultats possibles. D'autres caractéristiques comprennent une machine de verrouillage avancée qui permet une flexibilité totale dans une variété de configurations, et des broches d'entretoisement électrique sans contact pour empêcher l'entrée par inadvertance de matériaux étrangers. Le réacteur K465i GaN est également équipé de systèmes de surveillance de la puissance hyperfréquence pour assurer un transfert efficace des micro-ondes et un couplage précis de la puissance. En outre, le récepteur dispose de ports de détection de vide qui permettent une surveillance en temps réel et une grande précision absolue de la pression. Le réacteur VEECO/EMCORE TurboDisc K465i GaN est un outil fiable et puissant pour la production de plaquettes épitaxiales de haute qualité. Il offre une uniformité optimisée, un contrôle précis de la température, un excellent chauffage du substrat et des systèmes de contrôle numérique avancés. Ces caractéristiques en font un choix idéal pour tout projet épitaxié de semi-conducteur composé.