Occasion VEECO / EMCORE TurboDisc K465i GaN #9375122 à vendre en France

VEECO/EMCORE TurboDisc K465i GaN est un réacteur de dépôt de nouvelle génération conçu spécifiquement pour les applications de matériaux GaN. Il s'agit d'une plate-forme haute performance et ultra haute puissance pour une croissance optimale des matériaux pour ces applications. Doté de technologies de dépôt avancées et d'une plate-forme de réacteur optimisée, il fournit des taux de dépôt de pointe de l'industrie, une uniformité de film imbattable et un contrôle des procédés. Le K465i utilise la technologie de pointe du plasma couplé inductivement, un outil clé pour optimiser le traitement des matériaux avancés. Ce type de source de plasma est très efficace et idéal pour les procédés de dépôt de matériaux, comme ceux utilisés pour les applications de GaN. Il fournit un plasma haute densité avec une ionisation plus rapide que les sources classiques et une meilleure stabilité à l'ionisation, permettant un dépôt précis des couches minces de GaN. Le K465i dispose également d'un contrôle à fréquence variable de la source de plasma, permettant aux utilisateurs de contrôler avec précision l'énergie des molécules excitées et ionisées dans le plasma. Ce contrôle renforcé permet un contrôle précis du processus de dépôt, permettant des structures moléculaires incroyablement uniformes et très alignées. En outre, la source de forte puissance dans le K465i permet des taux de dépôt élevés qui sont essentiels pour optimiser les applications à l'échelle de la production. Le K465i est équipé d'une configuration à double tête de douche à paroi chaude, permettant deux configurations de sources de plasma et des taux de dépôt contrôlés indépendamment. Ceci permet un dépôt indépendant et simultané de films et de leurs paramètres dépendants de la couche à des taux de dépôt élevés. De plus, la conception de la double tête de douche peut être utilisée pour l'ingénierie de la structure cristalline avec un contrôle des caractéristiques grandement amélioré de la structure de la pile de couches et des épaisseurs de couches. Le K465i est conçu pour être très efficace même dans des conditions difficiles. Il est capable de fonctionner à haute température, de réduire le temps de cycle de production et de réduire les coûts de fonctionnement. Il dispose d'un système de refroidissement avancé qui élimine le besoin d'une pompe à vide, contribuant ainsi à son efficacité. Dans l'ensemble, VEECO TurboDisc K465i GaN est un réacteur de dépôt de nouvelle génération conçu spécifiquement pour les applications GaN, offrant des performances supérieures et un contrôle des processus. Il utilise des technologies de pointe telles que le plasma couplé inductivement, le contrôle de fréquence variable et une configuration double tête de douche à paroi chaude pour maximiser l'efficacité du processus de dépôt et obtenir des taux élevés de dépôt avec une qualité de film exceptionnellement uniforme. Cela en fait une plate-forme idéale pour le traitement des matériaux GaN.