Occasion VEECO / EMCORE TurboDisc K465i GaN #9375131 à vendre en France

ID: 9375131
Style Vintage: 2011
MOCVD System 2011 vintage.
Le réacteur VEECO/EMCORE TurboDisc K465i GaN est un outil de dépôt chimique en phase vapeur à haute température (HTCVD) conçu pour la fabrication de dispositifs à semi-conducteurs composés à base de nitrure de gallium (GaN). Le K465i combine deux modules de gaz réactif à flux constant à haute puissance avec un ensemble de commandes avancées pour fournir un environnement CVD sophistiqué et robuste. Le K465i est un module de réaction tout métal, tout gaz avec un profil de température uniforme à travers la surface du substrat. Avec son système propriétaire de débit de gaz, le K465i permet un contrôle précis de la répartition du gaz réactif dans l'enceinte, tout en maintenant une température uniforme. Ce contrôle dynamique des débits assure un environnement réactionnel homogène, ce qui est essentiel pour produire des cristaux de GaN de haute qualité. Le K465i est conçu pour être très fiable et efficace avec des temps de rafraîchissement et de démarrage rapides. Il utilise un système automatisé de nettoyage de chambre pour réduire les temps d'arrêt en minimisant le besoin de nettoyage manuel. Cette combinaison avec une cathode à longue durée de vie réduit les coûts de maintenance et améliore la stabilité du procédé. Le K465i dispose d'une large gamme de contrôles de processus qui le rendent approprié pour la recherche et la production d'une variété d'appareils de prochaine génération. En utilisant la technologie MFC (Mass Flow Controller) de haute précision, les utilisateurs peuvent définir avec précision les paramètres du processus pour créer une grande variété de structures GaN. Le K465i soutient également l'utilisation de processus multi-étapes, ce qui améliore encore sa précision et sa variabilité. Le K465i est un choix idéal pour produire des VCSEL, lasers, LED et autres appareils qui nécessitent le plus haut niveau de performance et de précision. Ses caractéristiques avancées permettent un dépôt uniforme et un contrôle précis du profil de surface et des performances électriques/optiques du dispositif. Avec son design puissant et efficace, le K465i offre des performances inégalées et une facilité d'utilisation, ce qui en fait un excellent choix pour un dépôt cristallin GaN de haute qualité.
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