Occasion VEECO / EMCORE TurboDisc K465i GaN #9375133 à vendre en France

VEECO/EMCORE TurboDisc K465i GaN Reactor est un système de traitement à plasma avancé conçu pour le dépôt de couches minces pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il s'agit d'un système à haut débit à haut débit qui consiste en une configuration source-obturateur multi-chambres à moteur linéaire avec un régulateur de débit de gaz de pointe et un régulateur de température. Le réacteur utilise un procédé exclusif qui combine une conception unique de tête de douche et une chimie du plasma optimisée pour fournir des films très uniformes et conformes avec un profil de bord supérieur et un contrôle exceptionnel de la température du substrat. Le K465i utilise une source de radiofréquence GaN de grande puissance (RF) avec un réseau d'appariement entièrement intégré, et peut fonctionner à une fréquence constante de 25 MHz ou variable jusqu'à 60 MHz. Grâce à son puissant générateur RF, le K465i peut générer du plasma pour divers processus de dépôt, y compris l'oxyde, le nitrure et les métaux, à basse température et à haut débit. Le système utilise des sources de plasma innovantes, y compris la technologie exclusive TurboDisc, pour assurer une grande uniformité et conformité sur les grands substrats. Le réseau d'appariement intégré fournit une puissance optimisée et assure l'uniformité et la répétabilité des résultats des dépôts. L'uniformité, la répétabilité et la performance en température du K465i lui permettent d'obtenir des résultats de processus comparables à ceux obtenus avec une technologie plus coûteuse et plus complexe. En outre, VEECO K465i est conçu pour être aussi évolutif et flexible que possible. Il peut être utilisé dans des configurations mono-outils pour des projets de petits à moyens lots, ainsi que dans des configurations multi-outils pour des essais pilotes plus importants. Sa construction modulaire et sa conception flexible lui permettent de s'intégrer facilement à d'autres équipements tels que les manipulateurs de robots, la métrologie ou les installations personnalisées pour un développement rapide. En outre, l'utilisation de plusieurs chambres et recettes personnalisées permet à l' K465i de créer différents types de films pour de multiples applications en même temps, offrant aux utilisateurs la capacité de répondre rapidement et efficacement à leurs besoins de production. En résumé, le réacteur VEECO TurboDisc K465i GaN est un réacteur à plasma de pointe qui combine une technologie de source de plasma innovante avec une uniformité, une répétabilité et un contrôle de température inégalés pour le dépôt de couches minces pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Son architecture évolutive et flexible permet aux clients de l'intégrer rapidement et facilement dans leurs lignes de production, tandis que son puissant générateur RF lui permet de produire divers matériaux et procédés de dépôt de qualité supérieure.