Occasion VEECO / EMCORE TurboDisc K465i GaN #9397191 à vendre en France

Le réacteur VEECO TurboDisc K465i au nitrure de gallium (GaN) est un dispositif semi-conducteur de pointe utilisé pour la croissance de matériaux semi-conducteurs complexes. Le K465i est un réacteur monobloc, conçu avec un système intégré de dépôt de couche atomique turbocompresseur (ALD) et d'épitaxie par faisceau moléculaire (MBE). La conception TurboDisc du réacteur K465i GaN garantit un fonctionnement uniforme, sans outil et à faible coût. En intégrant un système uniforme de traitement des plaquettes en forme de turbocompresseur dans son réacteur, le K465i peut atteindre un niveau de précision plus élevé que les réacteurs traditionnels. De plus, la conception du turbocompresseur minimise la contamination causée par l'air ambiant, réduit les contraintes thermiques causées par la répartition inégale de la température et permet d'améliorer la répétabilité des processus et le débit. Le réacteur K465i GaN est équipé d'une technologie à bobines Tri-Quadra à haute stabilité et à haut rendement capable de produire un dépôt continu soutenu avec une dissipation de puissance minimale. Tout au long du processus de dépôt, la bobine reste stable et fiable, ce qui permet des performances répétables avec des rendements élevés. Le réacteur dispose également d'une couverture de diffusion en mode véritable et d'un transfert de masse convectif pour faciliter la couverture de grande surface et améliorer la croissance des films en utilisant des matériaux peu coûteux. De plus, le réacteur K465i est conçu avec un système de contrôle automatisé (ACS) capable de surveiller et de contrôler l'état de croissance à la plage de température supportée de 350-1200 ° C L'ACS est équipé d'une variété de contrôleurs intégrés : chauffage, sécurité et refroidissement. Grâce à cette fonctionnalité avancée, le K465i peut produire des matériaux à diverses températures, pressions et taux de croissance, permettant des processus flexibles et fiables. Le Réacteur de K465i GaN a été prouvé produire des films de GaN fermes, uniformes, de haute qualité. Grâce à sa technologie TurboDisc, le réacteur est capable de créer des films GaN avec des caractéristiques électriques améliorées, une transmission optique supérieure et des performances de l'appareil améliorées. Ainsi, le K465i est un choix idéal pour créer des dispositifs semi-conducteurs à haut rendement sur le marché commercial.