Occasion VEECO / EMCORE TurboDisc K465i GaN #9409670 à vendre en France

VEECO/EMCORE TurboDisc K465i GaN est un réacteur MOCVD (dépôt chimique en phase vapeur métallique) à haute performance spécialement conçu pour le dépôt de couches de nitrure de gallium (GaN). Il s'agit d'un outil idéal pour le développement de dispositifs optoélectroniques avancés basés sur le GaN tels que les lasers, les transistors bipolaires à hétérojonction (HDF) et d'autres dispositifs électroniques. L'équipement est conçu avec une conception laser et chambre puissante pour assurer une uniformité fiable pour produire des plaquettes de grand diamètre avec des rendements élevés. Le réacteur VEECO TurboDisc K465i GaN dispose d'un obturateur électromécanique à rotation rapide pour la protection des substrats qui permet des changements rapides de cellules de plaquettes et de plaquettes. Ceci est combiné avec une purge rapide et des opérations de pompage vers le bas pour augmenter la vitesse et le débit de traitement. En outre, le réacteur dispose d'un ensemble de mélange de gaz et d'un système de contrôle de gaz spécialisé pour un débit précis de gaz. Cela permet d'optimiser les paramètres du procédé tels que la pression du réacteur, la température et les débits de gaz. Le réacteur EMCORE TurboDisc K465i GaN est équipé d'une unité avancée de manutention et de déplacement du substrat robotique. Il dispose d'une faible empreinte, d'un fonctionnement à grande vitesse et de petits et grands chargeurs de plaquettes. En outre, la machine dispose d'une interface graphique utilisateur personnalisable et intuitive (Graphical User Interface) qui facilite le fonctionnement et le format de recette. Le réacteur TurboDisc K465i GaN dispose d'une pompe turbomoléculaire très efficace pour réduire le temps d'arrêt de la pompe, assurer une excellente stabilité au vide et une plus longue durée de vie de la pompe. Il est également équipé d'un outil de refroidissement direct rapide, qui peut être installé de part et d'autre de la chambre du réacteur. Cet atout de refroidissement permet à l'utilisateur de garder la chambre froide même dans des conditions de fonctionnement exigeantes. De plus, le modèle de refroidissement rapide peut également être utilisé pour le recuit thermique et le collage de plaquettes. Le réacteur VEECO/EMCORE TurboDisc K465i GaN est optimisé pour une homogénéité à long terme et un rendement élevé, avec une excellente uniformité du substrat, une faible densité de défauts et un excellent rendement de production. En conclusion, le réacteur VEECO TurboDisc K465i GaN est un équipement très avancé et fiable pour la production de dispositifs optoélectroniques de haute performance basés sur le GaN, permettant des résultats fiables et reproductibles.