Occasion VEECO / EMCORE TurboDisc K475 #9372880 à vendre en France
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VEECO/EMCORE TurboDisc K475 est un réacteur conçu pour l'épitaxie de matériaux semi-conducteurs composés. Il est entraíné par un disque rotatif servant à déplacer un substrat à travers le réacteur. L'étage X-Y de haute précision permet un déplacement précis et répétable du substrat dans deux plans de dépôt contrôlé. Le réacteur a une distance source-substrat allant jusqu'à 5mm et un diamètre maximal de substrat de 20 ". La chambre de procédé est conçue pour être hermétiquement fermée avec un équipement résistant à la diffusion afin d'assurer la propreté du réacteur. Des éléments chauffants à l'intérieur de la chambre assurent une température constante pour la surface du substrat et le dépôt. Le système dispose d'une alimentation avancée à deux sources, avec un collecteur interne de gaz destiné à stocker, gérer et délivrer en permanence jusqu'à quatre gaz, à travers trois bandes d'alimentation indépendantes. La machine de chauffage permet des conditions de température programmables et un contrôle de température uniforme, fournissant un haut degré de précision pour des résultats fiables pendant le processus de croissance. Le réacteur est également conçu pour des opérations de maintenance facile et faible. Il dispose d'une interface tactile intuitive pour connecter l'ordinateur et accéder aux opérations de contrôle de machine en temps réel. Cette interface comprend des fonctions de sécurité intégrées, telles que l'arrêt automatique et les systèmes d'alarme. Enfin, divers capteurs sont utilisés pour surveiller divers paramètres tout au long du processus. Ces capteurs peuvent être utilisés pour détecter et gérer les taux de dépôt, les débits de gaz, la température de la chambre, la température du substrat, le vide du procédé et la composition du gaz. Dans l'ensemble, VEECO TurboDisc K475 est un réacteur de pointe conçu pour l'épitaxie d'une large gamme de matériaux semi-conducteurs composés. Son étage de haute précision, la distance source-substrat, le contrôle de la température, l'alimentation à deux sources, et les caractéristiques de sécurité avancées assurent un processus reproductible et fiable avec un entretien peu requis.
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