Occasion VEECO / EMCORE TurboDisc K475i As/P #9246072 à vendre en France

VEECO TurboDisc K475i As/P est un réacteur à plasma à arc cathodique à courant continu (courant continu) de grande puissance qui est conçu pour le dépôt à haut débit ou la gravure d'une large gamme de matériaux. Ce réacteur utilise un système d'injection de gaz pour créer un plasma très énergétique par lequel le matériau est réactif avec des agents environnementaux. Le réacteur dispose d'une alimentation DNI (Direct Negative Input) qui permet un dépôt et une gravure stables et précis. Le TurboDisc K475i As/P est constitué d'une chambre, d'un canon à faisceau d'électrons, d'un collecteur d'électrons (comme électrode) et d'une anode. EMCORE DC Power Supply couplé au canon à faisceau d'électrons génère un petit flux d'électrons intense qui frappe la surface de la pièce (substrat). Cette énergie est ensuite transférée à l'arc et le gaz injecté dans la chambre à partir du système d'injection de gaz. Le gaz se caractérise par une ionisation importante ; le gaz ionisé forme un plasma qui accélère la vitesse de dépôt et réduit la température du procédé. Le TurboDisc K475i est capable d'obtenir une vitesse de dépôt ou de gravure constante plus élevée qu'avec les technologies plasma classiques. Ses paramètres de densité de puissance élevée soutiennent les dépôts multicouches complexes ainsi que le succès des gravures à haute densité avec des effets de chaleur ou de déformation minimes. L'alimentation comprend également des caractéristiques exclusives, telles que la logique de gestion de la puissance avancée (APML), pour contrôler la puissance précise requise pour chaque cycle. Ceci permet également une compatibilité complète avec une large gamme de sources précurseurs ainsi que des exigences de substrat. VEECO/EMCORE TurboDisc K475i As/P est adapté à une large gamme d'applications de revêtement de précision et de finition de surface, y compris la fabrication de semi-conducteurs et de MEMS, le dépôt de cellules solaires et les écrans. Le réacteur est idéal pour des tâches de recherche et développement ou de production, en raison de sa flexibilité et de sa facilité d'utilisation. De plus, le système dispose de paramètres de fonctionnement étendus, d'adaptabilité à un large éventail de niveaux de puissance précis, ainsi que de fonctionnalités avancées d'intelligence, de contrôle et de sécurité pour un fonctionnement sans problème. Ce réacteur offre donc la plus grande qualité et consistance, permettant des débits plus élevés tout en délivrant un coût par plaquette supérieur.