Occasion VEECO K475 #9364542 à vendre en France

VEECO K475
Fabricant
VEECO
Modèle
K475
ID: 9364542
Taille de la plaquette: 2"-6"
MOCVD Reactor, 2"-6".
Le réacteur VEECO/DEKTAK K 475 est un réacteur de précision et de haute performance pour la recherche de matériaux avancés. Il est conçu pour la caractérisation rapide des propriétés électriques des couches minces, du silicium, de l'arséniure de gallium, du GaN et de nombreux autres matériaux. Ce réacteur offre des caractéristiques incroyablement puissantes et faciles à utiliser pour permettre des résultats fiables et reproductibles. Le réacteur VEECO K 475 est un réacteur de pulvérisation à courant continu (DC) et est bien adapté au dépôt atomique de couches minces, notamment de métaux, d'oxydes et de nitrures, ainsi que d'autres matériaux diélectriques. Ses performances sont améliorées par ses sources uniques de double magnétron DC pour le dépôt séquentiel et la gravure. Il dispose également d'un sous-système de mesure électrique qui est sensible et rapide, permettant des mesures de tôle et de résistance de contact extrêmement précises. L'utilisateur peut également choisir parmi une variété de supports de substrat, allant de plaquettes standard à des substrats partiellement montés. Le réacteur dispose d'un contrôle de mouvement automatisé avancé pour une précision et une répétabilité optimales. Il peut positionner avec précision la plaquette à moins de 3 μ m et obtenir un contrôle à grains fins de la surface de la plaquette conforme à 5Ω/sq. Le réacteur est également équipé d'un système de contrôle des dépôts haute performance, assurant des performances parfaites en contrôlant automatiquement la vitesse de dépôt, l'homogénéité et la précision du procédé. Le cycle de pulvérisation du réacteur peut être ajusté pour un taux de dépôt optimal et un équilibre optimal entre les taux de dépôt et de gravure. Le but principal de DEKTAK K475 Reactor est de créer des films minces de haute pureté pour la recherche de matériaux avancés. Il ouvre la voie au développement de matériaux avancés de plus en plus efficaces et fiables, fournissant aux chercheurs et aux praticiens de l'industrie des outils puissants pour évaluer leurs matériaux. Ce réacteur offre une plate-forme idéale pour l'étude et la fabrication de nouveaux films multicouches de haute précision pour des applications en optoélectronique, en télécommunications et en stockage de données.
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