Occasion VEECO TurboDisc E475 LDM #9401869 à vendre en France

Fabricant
VEECO
Modèle
TurboDisc E475 LDM
ID: 9401869
Style Vintage: 2010
MOCVD System High-brightness LEDs: Red, orange and yellow Multi-junction III-V concentrator solar cells Operation: 200 300 Epitaxy Control PC Electrical and control part Gas panel part Reactor part EBARA ESA70WD Dry pump Includes: As/P Growth chamber Growth chamber exhaust system Load lock and platter transfer Load lock exhaust system Glove box Water cooling assembly Dual Phosphorous trap assembly Hydrogen detector System electronics and control modules 380 V EpiView Local control interface (7) Liquid refrigerator baths (9) SS Bubbler legs, 1/8" Gas panel In-Situ monitoring system: (3) REALTEMP 200 Monitoring systems IDRT/RT Local control assembly Step up platform Custom gas panel controller bubbler: DETe DMZn (2) TMIn (2) TMGa TMAI CBr4 TBA Disilane Dilution network source manifold (Single bubbler) Hydride: Dopant1: Dislane Dual input Hydride with single standard and single dilution network manifold Dopant2: Dopant single input Hydride 2010 vintage.
Le réacteur VEECO TurboDisc E475 de métallisation à basse densité (LDM) est un outil conçu pour la production de dispositifs électroniques à film épais et haute performance. Il est utilisé pour déposer des films métalliques sur des substrats à l'aide d'un procédé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) activé par plasma à basse pression. L'équipement utilise un disque rotatif chaud unique pour créer un dépôt de film uniforme sur une grande surface. Le réacteur a été conçu spécifiquement avec un débit élevé et la fiabilité en tête, ce qui en fait le choix idéal pour la production de masse de dispositifs semi-conducteurs. Le système comprend une chambre de procédés, des plateaux de disques supérieurs et inférieurs, une trame de base et des systèmes d'alignement et de contrôle. La chambre de traitement du réacteur E475 a une configuration de ligne de gaz courte, ce qui permet un débit de gaz rapide et précis et un démarrage rapide. La chambre est équipée du transport et du support de plaquettes, ainsi que d'un collecteur de distribution de gaz. Les disques sont construits à partir d'un alliage d'aluminium haute performance, offrant une excellente stabilité thermique et mécanique. Les disques peuvent tourner jusqu'à 3500 tr/min et avoir une température maximale d'environ 400 ° C L'unité est conçue pour le dépôt de films métalliques, y compris la métallisation de cuivre et d'aluminium, les couches barrières et les couches d'adhérence. Il est capable de déposer des films performants avec une excellente homogénéité et des taux de dépôt élevés. La machine offre un contrôle précis de l'épaisseur et de l'adhérence du film, offrant un haut degré de procédé et de cohérence du matériau. Le E475 comprend également des systèmes de surveillance et de contrôle des processus qui permettent à l'utilisateur d'ajuster avec précision les paramètres de dépôt. L'interface utilisateur utilise une interface d'opérateur graphique intuitive pour simplifier la configuration, le démarrage et la surveillance des processus. L'outil comprend une connexion sécurisée et une piste d'audit qui facilite le suivi des données de processus et des résultats. Le réacteur est également conçu pour répondre à des exigences de sécurité strictes, en réduisant les risques d'accidents et en améliorant la sécurité sur le lieu de travail. Le réacteur E475 LDM est un outil idéal pour la fabrication d'appareils électroniques performants et fiables. Grâce à sa conception avancée et à ses performances fiables, il a été conçu pour de faibles besoins globaux de maintenance, ce qui en fait un outil efficace tant pour la production à petite échelle que pour la production à grande échelle.
Il n'y a pas encore de critiques