Occasion VEECO TurboDisc E475 LDM #9401869 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
ID: 9401869
Style Vintage: 2010
MOCVD System
High-brightness LEDs: Red, orange and yellow
Multi-junction III-V concentrator solar cells
Operation: 200 300 Epitaxy
Control PC
Electrical and control part
Gas panel part
Reactor part
EBARA ESA70WD
Dry pump
Includes:
As/P Growth chamber
Growth chamber exhaust system
Load lock and platter transfer
Load lock exhaust system
Glove box
Water cooling assembly
Dual Phosphorous trap assembly
Hydrogen detector
System electronics and control modules 380 V
EpiView Local control interface
(7) Liquid refrigerator baths
(9) SS Bubbler legs, 1/8"
Gas panel
In-Situ monitoring system:
(3) REALTEMP 200 Monitoring systems
IDRT/RT Local control assembly
Step up platform
Custom gas panel controller bubbler:
DETe
DMZn
(2) TMIn
(2) TMGa
TMAI
CBr4
TBA
Disilane
Dilution network source manifold (Single bubbler)
Hydride:
Dopant1: Dislane
Dual input Hydride with single standard and single dilution network manifold
Dopant2: Dopant single input Hydride
2010 vintage.
Le réacteur VEECO TurboDisc E475 de métallisation à basse densité (LDM) est un outil conçu pour la production de dispositifs électroniques à film épais et haute performance. Il est utilisé pour déposer des films métalliques sur des substrats à l'aide d'un procédé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) activé par plasma à basse pression. L'équipement utilise un disque rotatif chaud unique pour créer un dépôt de film uniforme sur une grande surface. Le réacteur a été conçu spécifiquement avec un débit élevé et la fiabilité en tête, ce qui en fait le choix idéal pour la production de masse de dispositifs semi-conducteurs. Le système comprend une chambre de procédés, des plateaux de disques supérieurs et inférieurs, une trame de base et des systèmes d'alignement et de contrôle. La chambre de traitement du réacteur E475 a une configuration de ligne de gaz courte, ce qui permet un débit de gaz rapide et précis et un démarrage rapide. La chambre est équipée du transport et du support de plaquettes, ainsi que d'un collecteur de distribution de gaz. Les disques sont construits à partir d'un alliage d'aluminium haute performance, offrant une excellente stabilité thermique et mécanique. Les disques peuvent tourner jusqu'à 3500 tr/min et avoir une température maximale d'environ 400 ° C L'unité est conçue pour le dépôt de films métalliques, y compris la métallisation de cuivre et d'aluminium, les couches barrières et les couches d'adhérence. Il est capable de déposer des films performants avec une excellente homogénéité et des taux de dépôt élevés. La machine offre un contrôle précis de l'épaisseur et de l'adhérence du film, offrant un haut degré de procédé et de cohérence du matériau. Le E475 comprend également des systèmes de surveillance et de contrôle des processus qui permettent à l'utilisateur d'ajuster avec précision les paramètres de dépôt. L'interface utilisateur utilise une interface d'opérateur graphique intuitive pour simplifier la configuration, le démarrage et la surveillance des processus. L'outil comprend une connexion sécurisée et une piste d'audit qui facilite le suivi des données de processus et des résultats. Le réacteur est également conçu pour répondre à des exigences de sécurité strictes, en réduisant les risques d'accidents et en améliorant la sécurité sur le lieu de travail. Le réacteur E475 LDM est un outil idéal pour la fabrication d'appareils électroniques performants et fiables. Grâce à sa conception avancée et à ses performances fiables, il a été conçu pour de faibles besoins globaux de maintenance, ce qui en fait un outil efficace tant pour la production à petite échelle que pour la production à grande échelle.
Il n'y a pas encore de critiques