Occasion VEECO TurboDisc K465 GaN #9410043 à vendre en France

Le réacteur VEECO TurboDisc K465 Gallium Nitride (GAN) est un équipement de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) conçu pour fournir un procédé de dépôt extrêmement efficace et exigeant pour la production de dispositifs semi-conducteurs à base de GaN. Il offre à la fois la flexibilité du processus et la répétabilité pour assurer des rendements élevés et d'excellentes performances de l'appareil. Ce système est idéal pour des applications telles que les transistors, les diodes Schottky, les HEMT, les appareils de grande puissance et les diodes laser. Le réacteur K465 est construit avec une forme circulaire formant un disque horizontal ou vertical, selon les besoins de l'utilisateur final. Cette conception unique permet une structure d'uniformité avancée pour assurer une excellente uniformité et des taux de dépôt excellents. L'unité de distribution de gaz utilise un seul injecteur de gaz avec de multiples ports d'injection diffuse répartis sur la circonférence de la chambre de procédé. Une telle conception permet de maximiser l'homogénéité de la distribution de gaz dans la chambre. De plus, le réacteur TurboDisc K465 est équipé d'une pompe rapide/rugueuse linéaire multi-étages basse pression pour un contrôle de pression efficace et précis. La tuyauterie collectrice est construite en acier inoxydable pour une durée de vie plus longue. Le réacteur à plasma TurboDisc K465 se caractérise par une large gamme de plasma et des températures de processus allant jusqu'à 1000 ° C Il est capable de déposer avec précision des semi-conducteurs composés tels que AIN, AlGaN, AlN, GaN et InGaN avec des taux de dépôts jusqu'à 45 nm/min avec une excellente uniformité. Sa technologie brevetée de rotation de substrat et sa large gamme de puissance permettent d'optimiser les conditions de processus de dépôt pour produire des couches épitaxiées avec une grande qualité et uniformité. L'outil TurboDisc K465 est doté d'une interface graphique très intuitive et conviviale pour fournir une rétroaction visuelle et permettre un ajustement facile et rapide des paramètres du processus. Cette interface permet également des activités utiles d'acquisition de données et de développement de processus. Le réacteur VEECO TurboDisc K465 GaN est un actif de dépôt fiable et performant pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs avancés à base de GaN. Ses caractéristiques uniques, sa flexibilité, sa répétabilité et son interface graphique en font un choix idéal pour l'industrie, la recherche et le développement.