Occasion JEOL JBX-5500FS #293775451 à vendre en France
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ID: 293775451
Style Vintage: 2013
E-Beam lithography system
Electron emitter: TFE (ZrO/W)
Acceleration voltage: 50 keV
Beam current: 30 pA - 20 nA
Field size: 100 µm, 1000 µm
Beam scanning speed: 12 MHz
Manual loader
Wafer holder, 4"
XY Stage
Dry pump
Vacuum pump
Valves
Clean Dry Air (CDA)
Beam shape: Circular spot
Gas: SF6
Stage movement: 104 x 75 mm
Emitter non-functional
Cooling water system:
Flow rate: 6 L/min
Pressure: 0.15 to 0.5 MPa
Temperature: 15° to 32°C
Writing modes:
Accelerating voltage / Objective lens / Maximum write field size / Minimum E-Beam size
25 kV / 4th Lens / 2000 x 2000 µm² / 10 nm
50 kV / 4th Lens / 1000 x 1000 µm² / 5 nm
25 kV / 5th Lens / 200 x 200 µm² / 1 nm
50 kV / 5th Lens / 100 x 100 µm² / 0.5 nm
(3) Cassettes:
BX-Z12016TMPC/S
BX-Z12017TMPC/S
BX-Z0714507W2T
Liquid crystal display
Hard Disk Drive (HDD)
Workstation
PC
Operating system: Windows XP
Manuals included
Power supply: 100-200 VAC, 50/60 Hz
2013 vintage.
JEOL JBX-5500FS est un microscope électronique à balayage de pointe (SEM) qui établit une nouvelle norme dans l'imagerie haute résolution, la modélisation précise et les capacités de nanofabrication avancées. Cet instrument est conçu pour une gamme variée d'applications en science des matériaux, recherche sur les semi-conducteurs, bioingénierie et nanotechnologie. Au cœur de JEOL JBX-5500 FS se trouve son équipement d'optique électronique, qui intègre un canon à électrons à émission de champ capable de produire un faisceau d'électrons fortement focalisé avec une résolution sous-nanométrique. Cela permet au microscope d'obtenir des performances d'imagerie exceptionnelles, capturant la topographie de surface détaillée et les structures ultrafines avec une clarté et une précision remarquables. La source d'électrons à haute luminosité permet également une détection et une sensibilité accrues du signal, ce qui la rend idéale pour l'imagerie d'échantillons à faible contraste ou à faible numéro atomique. Une des caractéristiques clés de JBX-5500FS est sa polyvalence, qui est obtenue grâce à l'utilisation d'un système de lithographie électronique de haute précision. Cette fonction permet aux chercheurs de créer des nanostructures et des motifs sur mesure sur une variété de substrats avec une résolution de moins de 10 nm. L'instrument prend en charge un large éventail de modes de lithographie, y compris l'écriture directe, la proximité et la lithographie de projection, donnant aux utilisateurs la souplesse nécessaire pour adapter leur approche à leurs besoins spécifiques. Grâce à ses systèmes avancés d'automatisation et de contrôle, JBX-5500 FS offre une interface conviviale qui simplifie le fonctionnement et assure la reproductibilité dans les procédures expérimentales. Le microscope est équipé d'outils logiciels sophistiqués pour l'acquisition, l'analyse et le traitement d'images, permettant aux utilisateurs de générer rapidement des images de haute qualité et d'obtenir des informations précieuses sur leurs échantillons. De plus, les capacités de programmation intuitives de l'unité permettent de créer facilement des motifs lithographiques complexes, facilitant ainsi un prototypage rapide et une fabrication efficace des dispositifs. En termes de capacités de nanofabrication, JEOL JBX-5500FS excelle dans la production de nanostructures complexes avec des rapports d'aspect élevés et des dimensions précises. La machine peut déposer et graver une variété de matériaux, y compris des métaux, des polymères et des oxydes, permettant aux chercheurs de créer des structures tridimensionnelles complexes pour un large éventail d'applications. De plus, le microscope prend en charge la surveillance in situ et la rétroaction en temps réel pendant les processus de fabrication, assurant un contrôle précis de la taille, de la forme et de l'alignement des fonctionnalités. JEOL JBX-5500 FS est également équipé d'une gamme de techniques d'imagerie et d'analyse avancées qui améliorent sa polyvalence et sa fonctionnalité. Il s'agit notamment de la spectroscopie à rayons X dispersive d'énergie (EDS) pour l'analyse élémentaire, de la diffraction par rétrodiffusion électronique (EBSD) pour la caractérisation cristallographique et de la cathodoluminescence (CL) pour l'étude des propriétés optiques des matériaux. En combinant ces modalités d'imagerie avec ses capacités d'imagerie et de lithographie à haute résolution, le microscope fournit aux utilisateurs un ensemble complet d'outils pour la caractérisation et la manipulation des échantillons en profondeur. Dans l'ensemble, JBX-5500FS est un microscope électronique à balayage de pointe qui incarne la précision, la performance et la polyvalence. Son optique électronique de pointe, son imagerie haute résolution, son tissage précis et ses capacités de nanofabrication sophistiquées en font un outil indispensable pour les chercheurs et les ingénieurs travaillant dans divers domaines de la science et de la technologie. Qu'il s'agisse d'étudier des phénomènes à l'échelle nanométrique, de fabriquer des nanostructures sur mesure ou de caractériser des matériaux avancés, JBX-5500 FS offre une qualité d'imagerie et une puissance d'analyse inégalées pour stimuler l'innovation et la découverte dans les nanosciences.
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