Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-03254 #9309550 à vendre en France

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AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-03254
Vendu
ID: 9309550
Taille de la plaquette: 8"
MCA E-Chuck heater, 8".
AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-03254 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) de pointe conçu pour des professionnels de l'industrie des semi-conducteurs, de l'optique et de la céramique de pointe. Cet outil est conçu pour une efficacité, une sécurité et une fiabilité maximales lors du traitement de couches de matériaux de haute pureté et d'ultra-haute pureté telles que le silicium, les oxydes et les nitrures. Il est capable de fonctionner à des températures de travail allant jusqu'à 1200 ° F. AMAT 0010-03254 utilise un équipement d'alimentation en gaz qui permet une large gamme de réactifs. L'outil alimente le substrat en réactifs et assure également des fonctions spécifiques de chauffage et de contrôle. Par exemple, la température de la puce est précisément surveillée et ajustée selon les besoins afin d'obtenir les résultats souhaités. D'autres fonctionnalités comprennent un générateur RF, un module de régulation de puissance et de température, et un écran LCD. Le réacteur est également équipé d'un système de dépôt direct descendant qui assure une épaisseur uniforme de la couche sur le substrat. Cette unité est faite d'un couvercle en quartz de haute qualité qui empêche l'oxydation et assure des couches de film de qualité constante. De plus, le couvercle en cristal de quartz permet également de réduire le risque d'entrée de particules contaminantes dans la machine. MATÉRIAUX APPLIQUÉS 0010-03254 a une conception compacte, nécessitant un minimum d'espace au sol. L'outil est utilisé à l'aide d'un panneau tactile, simplifiant la programmation et la rendant conviviale. Il élimine le besoin de systèmes de contrôle externes et spécialisés. Le réacteur peut être intégré avec des outils automatisés supplémentaires et fournit une connectivité linéaire et modulaire pour le traitement optoélectronique. Il offre également un épurateur à gaz de chambre qui maximise la pureté de la distribution de gaz d'entrée. Dans l'ensemble, le 0010-03254 est un excellent choix pour ceux qui recherchent un réacteur CVD fiable et efficace. Il est conçu pour un fonctionnement sûr et efficace, permettant aux professionnels de l'industrie de produire des couches de film de haute qualité pour des applications exigeantes. C'est également une excellente option pour ceux qui cherchent à réduire les coûts, gagner du temps et profiter de la technologie sophistiquée.
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