Occasion AJA ATC 3400-V #9213688 à vendre en France

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ID: 9213688
Sputtering system Vertically oriented web drive system Web width capacity: 5" Ion surface treatment source QUARTZ Crystal rate monitors PLANAR Magnetron sputter source Dual planar magnetron sputter source (AC and bipolar capable) ADVANCED ENERGY PEII AC Sputter power supply 10 kW SHIMADZU Turbo-molecular vacuum pump ALCATEL Mechanical vacuum pump Dual sputter gases with mass flow controllers PCC Polycold meissner trap: ~1.5 E-07 Torr Linear cathodes: 5" x 15" (2) Bays: Single ended cathode Dual magnetron sputtering. Does not include ADVANCED ENERGY Pinnacle+ pulsed DC sputter power supply.
AJA ATC 3400-V est un équipement de pulvérisation haute performance conçu pour les applications à couches minces de haute puissance. Le système utilise la technologie d'évaporation par faisceau d'électrons pour pulvériser efficacement des couches minces complexes d'oxyde d'aluminium à un rythme élevé. Il utilise deux sources d'ions à haute performance qui produisent un plasma à haute densité uniforme et délivrent des taux de dépôt uniformes supérieurs, offrant un contrôle des dépôts supérieur et rentable. L'unité peut fonctionner en configuration verticale ou horizontale et est conçue pour être compatible avec le fonctionnement en courant continu (courant continu) et en courant alternatif (courant alternatif). L'ATC 3400-V offre la surveillance et le contrôle automatisés des processus, ainsi que la technologie avancée d'analyse du faisceau d'ions (IBA), qui permet de mesurer la distribution élémentaire et la taille des grains, ainsi que la distribution de la taille des grains dans le film. La machine offre six options cibles standard pour la pulvérisation - cible Al-Ni, cible Al-SiC, cible Ni-C, cible Al-Ta, cible Al-Sn et cible Al-Cu. En outre, l'outil offre un actif gazier externe qui permet la pulvérisation de α-Al2O3, β-Al2O3 et TiO2. Le modèle comprend également un moniteur de service en ligne qui peut identifier les anomalies dans le processus de pulvérisation et diagnostiquer les problèmes avant qu'ils puissent endommager le film mince. AJA ATC 3400-V a une plage de température ambiante de 4 ° C à 40 ° C et une plage d'humidité relative de 0 % à 85 %. Il fournit deux serrures chauffantes pouvant accueillir des substrats jusqu'à douze pouces de diamètre. La conception robuste de l'ATC 3400-V offre un taux de dépôt élevé pouvant atteindre 20 μ m/min, ce qui garantit qu'il convient à une production à haut volume. AJA ATC 3400-V est conçu avec la sécurité en tête, avec des caractéristiques de sécurité physiques et électroniques. L'équipement comprend une enceinte de sécurité et un commutateur E-STOP, pour arrêter rapidement et facilement le système si nécessaire. De plus, l'unité peut être commandée via un réseau distant, assurant la tranquillité d'esprit lors du fonctionnement de la machine sans être au même endroit. En conclusion, l'ATC 3400-V est un outil de pulvérisation par pulvérisation haute performance qui convient à la production de films minces à haute intensité DOI. Il offre un processus automatisé pour surveiller et contrôler le taux de dépôt, ainsi qu'une gamme de sources d'ions à haute performance et d'options cibles. Il est également conçu avec des composants robustes pour un taux de dépôt élevé, et avec des caractéristiques de sécurité pour la tranquillité d'esprit.
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