Occasion ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER SCM 650 #9258696 à vendre en France

ID: 9258696
Sputtering system RF/DC Sputtering Ionic cleaning Cathodes: (2) Magnetron targets, 8" Substrate transport load lock: 6" Diameter substrates Substrate holder: (4) Stations (6) Indexed positions (4) Transfers with (2) sputtering positions Rotation: 1 to 30 RPM Vertical translation: 50 to 100 mm Shutter: 1 3/4 Automatic shutter Generators: RF Generator: 2000W For the targets 1 and 2 and substrate holder DC Generator: 3000W For the targets 1 and 2 (2) Gas lines.
ALCATEL/ADIXEN/PFEIFFER SCM 650 est un équipement perfectionné de pulvérisation à pleine capacité avec une alimentation à haute tension variable et des commandes robustes pour réaliser et maintenir un processus de dépôt précis. Ce système PVD de pointe est conçu pour le dépôt industriel de couches minces idéales pour les applications de revêtement optique et de stockage de données magnétiques. L'ADIXEN SCM 650 se compose d'une alimentation haute tension efficace, d'un filtre magnétique précis et d'une chambre de pulvérisation complète. La chambre est conçue pour une gestion optimale de la chaleur et contient un puissant champ magnétique uniforme pour un dépôt de couches minces extrêmement précis. L'alimentation haute tension très efficace fournit une puissance puissante, précise et cohérente pour le dépôt sous vide de couches minces. L'alimentation est capable de fonctionner à haute tension jusqu'à 2.5kV et fournit une puissance de pulvérisation de 0.5kW à 20kW (configuration groupée). L'alimentation électrique permet également la variation de la puissance avec les courbes de contrôle à niveau de temps et de température. Le filtre magnétique précis d'ALCATEL SCM 650 permet d'assurer le processus de pulvérisation uniforme en filtrant les impuretés dans l'atmosphère. Le filtre magnétique maintient également l'homogénéité du dépôt du film, créant des couches minces uniformes sur le substrat. PFEIFFER SCM 650 est équipé d'une variété de fonctionnalités pour maximiser l'uniformité et le contrôle des processus. Il dispose d'une unité interne de surveillance des plaquettes, d'une machine de commutation précise, d'un régulateur de température et d'un moniteur d'oxygène. Il propose également des systèmes de contrôle plasma avancés tels qu'un outil de distribution de gaz multi-zones et un injecteur de gaz double. L'actif d'injection de gaz permet un contrôle précis du débit de gaz et de la température avec l'anode et la cathode à température contrôlée. SCM 650 est un modèle idéal pour le dépôt de couches minces de haute précision pour des applications telles que les revêtements optiques à couches minces et les supports de stockage de données magnétiques. Il offre une pulvérisation cathodique cohérente, précise et à haut rendement pour un dépôt en couche mince uniforme et régulier. L'équipement entièrement intégré offre un contrôle efficace et précis pour un processus fiable et précis.
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