Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS ATON 1600 #9248312 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS ATON 1600 est un outil polyvalent très avancé pour le dépôt physique en phase vapeur (PVD) et le dépôt chimique en phase vapeur (CVD). AMAT ATON 1600 utilise un vide ultra-élevé, des technologies de pointe et des matériaux et procédés de pointe pour atteindre les niveaux les plus élevés d'uniformité et de reproductibilité des dépôts. MATÉRIAUX APPLIQUÉS ATON 1600 permet aux utilisateurs de pulvériser simultanément deux ou plusieurs matériaux cibles sur plusieurs substrats. Chaque procédé est contrôlé indépendamment par un système propriétaire, ce qui permet aux utilisateurs de contrôler des paramètres individuels tels que la pression de la chambre, la puissance cible, la température du substrat et les débits de gaz. De plus, ATON 1600 permet d'automatiser les cycles entre les dépôts et les cycles, permettant aux utilisateurs de contrôler exactement comment le matériau est préparé, déposé et durci. AMAT/APPLIED MATERIALS ATON 1600 utilise également une technologie avancée de prétraitement de surface par faisceau d'ions pour les matériaux inorganiques et les films diamantés. Cette technique innovante implique le bombardement d'un substrat (ou d'une pièce séparée de matériau substrat) avec un faisceau d'ions énergétiques. Il en résulte que le matériau devient atomiquement amorphe et très réactif. Des surfaces atomiquement propres peuvent alors être formées par pulvérisation ou dépôt assisté par plasma à l'aide d'AMAT ATON 1600. Cette pulvérisation à haute énergie ainsi que la gravure ionique réactive à faible énergie peuvent être utilisées pour obtenir une uniformité d'épaisseur ultra fine et une couverture d'étape améliorée avec un haut degré de précision. En utilisant ces techniques de dépôt sans aberration, APPLIED MATERIALS ATON 1600 permet aux utilisateurs de créer des films extrêmement uniformes même sur des substrats difficiles. L'ATON 1600 dispose également d'une configuration unique double-Charge-Lock qui permet un chargement rapide et facile de l'unité, tout en assurant une intégrité constante sous vide et un débit élevé. La machine dispose en outre d'une source de plasma haute densité avancée et automatisée pour des processus de gravure de haute précision. AMAT/APPLIED MATERIALS ATON 1600 est également équipé d'un actionneur intégré qui permet de contrôler directement la rotation et le positionnement du substrat lors du dépôt. AMAT ATON 1600 est un outil idéal pour des applications telles que le dépôt optique en couches minces, le stockage sur disques durs, le dépôt à base de précision, le dépôt en joint, les empilements multicouches, etc. En utilisant les technologies et procédés révolutionnaires disponibles avec APPLIED MATERIALS ATON 1600, les utilisateurs sont en mesure de créer des résultats supérieurs de dépôt en couches minces qui sont très uniformes et ont une excellente couverture étape.